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            EEPW首頁 >> 主題列表 >> hyper-na euv

            臺積電EUV大舉拉貨 供應鏈集體狂歡

            • 臺積電2納米先進制程產(chǎn)能將于2025年量產(chǎn),設(shè)備廠正如火如荼交機,尤以先進制程所用之EUV(極紫外光曝光機)至為關(guān)鍵,今明兩年共將交付超過60臺EUV,總投資金額上看超過4,000億元。在產(chǎn)能持續(xù)擴充之下,ASML2025年交付數(shù)量成長將超過3成,臺廠供應鏈沾光,其中家登積極與ASML攜手投入次世代High-NA EUV研發(fā),另外帆宣、意德士、公準、京鼎及翔名等有望同步受惠。 設(shè)備業(yè)者透露,EUV機臺供應吃緊,交期長達16至20個月,因此2024年訂單大部分會于后年開始交付;據(jù)法人估計,今年臺積電EUV訂
            • 關(guān)鍵字: 2納米  先進制程  ASML  EUV  臺積電  

            改變?摩爾定律的未來是粒子加速器嗎?

            • 位于日本筑波的高能加速器研究組織(KEK)的一組研究人員認為,如果利用粒子加速器的力量,EUV光刻技術(shù)可能會更便宜、更快、更高效。
            • 關(guān)鍵字: 摩爾定律  粒子加速器  EUV  光刻技術(shù)  

            ASML市值超車LVMH,成為歐洲第二大上市公司

            • 最新 EUV 設(shè)備的銷售情況對 ASML 的市值產(chǎn)生了明顯影響。
            • 關(guān)鍵字: EUV  ASML  

            可量產(chǎn)0.2nm工藝!ASML公布Hyper NA EUV光刻機:死胡同不遠了

            • 6月16日消息,ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機,同時正在研究更強大的Hyper NA EUV光刻機,預計可將半導體工藝推進到0.2nm左右,也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機孔徑數(shù)值只有0.33,對應產(chǎn)品命名NXE系列,包括已有的3400B/C、3600D、3800E,以及未來的4000F、4200G、4X00。該系列預計到2025年可以量產(chǎn)2nm,再往后就得加入多重曝光,預計到2027年能實現(xiàn)1.4nm的量產(chǎn)。High NA光刻機升級到了
            • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機  高NA EUV  0.2nm  

            ASML:EUV光刻機已近極限 追趕技術(shù)還是另辟蹊徑?

            • ASML首席財務(wù)官達森(Roger Dassen)表示,EUV技術(shù)路線發(fā)展受歐美限制,且光刻機已接近技術(shù)極限,此一技術(shù)路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進行技術(shù)跟隨?還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術(shù)路徑?將面臨艱難的抉擇。 據(jù)《芯智訊》報導,臺積電已經(jīng)訂購了High NA EUV(高數(shù)值孔徑極紫外光)光刻機,ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結(jié)束,預計在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關(guān)設(shè)備訂單。ASML預測其設(shè)備的市場需求有望一路走強至2026年,這主要是受益于各國
            • 關(guān)鍵字: ASML  EUV  光刻機  

            臺積電今年將拿到最新款光刻機

            • 6月6日消息,據(jù)外媒報道稱,ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進的光刻機,單臺造價達3.8億美元。報道中提到,ASML首席財務(wù)官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師,公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數(shù)值孔徑(高NA)極紫外(EUV)光刻系統(tǒng)。英特爾此前已經(jīng)訂購了最新的高NA EUV設(shè)備,第一臺設(shè)備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠。目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設(shè)備。據(jù)悉,這些機器每臺造價3.5億歐元(3.8億美元),重量相當于兩架空中客車A
            • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機  高NA EUV  

            EUV光刻機“忙瘋了”

            • 據(jù)市場消息,目前,ASML High NA EUV光刻機僅有兩臺,如此限量版的EUV關(guān)鍵設(shè)備必然無法滿足市場對先進制程芯片的需求,為此ASML布局步伐又邁一步。當?shù)貢r間6月3日,全球最大的半導體設(shè)備制造商阿斯麥(ASML)宣布,攜手比利時微電子研究中心(IMEC),在荷蘭費爾德霍芬(Veldhoven)開設(shè)聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室(High NA EUV Lithography Lab),并由雙方共同運營。推動摩爾定律關(guān)鍵因素:High NA EUV技術(shù)據(jù)業(yè)界信息,High NA EUV技術(shù)是
            • 關(guān)鍵字: EUV  光刻機  EDA設(shè)計  

            ASML和IMEC啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室

            • 自ASML官網(wǎng)獲悉,6月3日,比利時微電子研究中心(imec)與阿斯麥(ASML)宣布在荷蘭費爾德霍芬(Veldhoven)開設(shè)聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室(High NA EUV Lithography Lab),由ASML和imec共同運營。聲明中稱,經(jīng)過多年的構(gòu)建和集成,該實驗室已準備好為領(lǐng)先的邏輯和存儲芯片制造商以及先進材料和設(shè)備供應商提供第一臺原型高數(shù)值孔徑EUV掃描儀(TWINSCAN EXE:5000)以及周圍的處理和計量工具。據(jù)悉,該聯(lián)合實驗室的開放是High-NA EUV大批量生
            • 關(guān)鍵字: 阿斯麥  ASML  EUV  

            臺積電CEO秘訪ASML,High-NA EUV光刻機競賽提前打響?

            • 5月26日,臺積電舉辦“2024年技術(shù)論壇臺北站”的活動,臺積電CEO魏哲家罕見的沒有出席,原因是其秘密前往荷蘭訪問位于埃因霍溫的ASML總部,以及位于德國迪琴根的工業(yè)激光專業(yè)公司TRUMPF。ASML CEO Christophe Fouquet和其激光光源設(shè)備供應商TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller近日通過社交媒體透露了魏哲家秘密出訪的行蹤。Christophe Fouquet表示他們向魏哲家介紹了最新的技術(shù)和新產(chǎn)品,包括High-NA EUV設(shè)備將如何實現(xiàn)未來
            • 關(guān)鍵字: 臺積電  ASML  High-NA  EUV  光刻機  

            美光計劃投資約300億元在日本新建DRAM廠

            • 據(jù)日媒報道,美光科技計劃投入6000億-8000億日圓(約合人民幣277-369億元)在日本廣島縣興建新廠,用于生產(chǎn)DRAM芯片。這座新廠房將于2026年初動工,并安裝極紫外光刻(EUV)設(shè)備。消息稱最快2027年底便可投入營運。報道稱,此前,日本政府已批準多達1920億日圓補貼,支持美光在廣島建廠并生產(chǎn)新一代芯片。去年,日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省曾表示,將利用這筆經(jīng)費協(xié)助美光科技生產(chǎn)芯片,這些芯片將是推動生成式AI、數(shù)據(jù)中心和自動駕駛技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵。
            • 關(guān)鍵字: 美光  DRAM  日本  EUV  

            High-NA EUV光刻機或?qū)⒊蔀橛⑻貭柕霓D(zhuǎn)機

            • 上個月英特爾晶圓代工宣布完成了業(yè)界首臺High-NA EUV光刻機組裝工作。隨后開始在Fab D1X進行校準步驟,為未來工藝路線圖的生產(chǎn)做好準備。
            • 關(guān)鍵字: High-NA  EUV  光刻機  英特爾  芯片  半導體  

            臺積電美國設(shè)廠貴又慢?工程師揭關(guān)鍵:EUV機臺組裝超乎想象

            • 臺積電熊本廠已在2月底開幕,美國亞利桑那州新廠卻從2024年遞延至2025年量產(chǎn),美國一名結(jié)構(gòu)工程師撰文指出,在美國蓋晶圓廠的速度比世界其他地方慢,建造成本也比世界其他地區(qū)高出30%到4倍。而蓋晶圓廠比想象中復雜,以ASML的一臺先進EUV曝光機為例,可能裝在40個貨柜中,需要漫長而仔細的組裝過程。美國進步中心(Institute of Progress)學者、結(jié)構(gòu)工程師波特(Brian Potter)以如何建造一座價值200億美元的半導體廠為題撰文指出,隨著摩爾定律的發(fā)展,芯片已變得越來越小、越來越便宜
            • 關(guān)鍵字: 臺積電  美國設(shè)廠  EUV  機臺  

            財經(jīng)專家揭秘臺積電「抗震神器」:1鈴聲預告出大事

            • 花蓮外海3日上午發(fā)生規(guī)模7.2大地震,臺積電昨晚間發(fā)聲明,震后10小時內(nèi),晶圓廠設(shè)備的復原率已超過70%,雖少數(shù)設(shè)備受損并影響部分產(chǎn)線生產(chǎn),但主要機臺包含所有極紫外(EUV)光刻設(shè)備皆無受損。對此,財經(jīng)專家黃世聰表示,臺積電晶圓廠的機臺,使用的是美國航天等級、連美軍都在用的阻尼器,且下方還有抗震減壓的機臺,把地震影響降到最小,且臺積電工程師訓練有素,只要發(fā)生地震、聽到公司手機響起臺積電之歌的鈴聲,就知道出大事、要趕回公司。臺積電產(chǎn)能牽動全球科技業(yè),強震后外界關(guān)注影響。臺積電昨晚發(fā)布聲明,在3日地震發(fā)生后僅
            • 關(guān)鍵字: 臺積電  抗震神器  EUV  強震  

            臺積電曝EUV主要機臺沒受損 美媒示警:強震后面臨考驗

            • 昨日花蓮發(fā)生規(guī)模7.2地震,外媒高度關(guān)注是否對中國臺灣護國神山臺積電造成影響,臺積電表示,部分廠區(qū)的少數(shù)設(shè)備受損,但所有極紫外(EUV)光刻設(shè)備等主要機臺皆無受損?!度A爾街日報》撰文指出,臺積電坐落在世界上最大地震熱點之一的中國臺灣,在昨日強震后將受到考驗。報導指出,在此次地震中臺積電是幸運的,因為其主要設(shè)施地點位在北、中、南部,與東部的震央距離相對較遠,這次臺積電新竹、龍?zhí)逗椭衲系瓤茖W園區(qū)的最大震度為5級 ,臺中和臺南科學園區(qū)的最大震度4級。雖然臺積電工廠建筑物完好無損,但用于制造半導體的設(shè)備和材料非常
            • 關(guān)鍵字: 臺積電  EUV  強震  

            中國臺灣地震影響全球半導體業(yè) 一文看懂如何撼動芯片供應鏈

            • 3日早上7點58分左右,中國臺灣花蓮發(fā)生規(guī)模7.2地震,擾亂臺積電在內(nèi)的公司營運,臺積電對此表示,雖然部分廠區(qū)的少數(shù)設(shè)備受損并影響部分產(chǎn)線生產(chǎn),但主要機臺包含所有極紫外(EUV)光刻設(shè)備皆無受損。許多外媒則示警,這凸顯了臺積電和全球芯片供應鏈處在地震的風險與威脅之中。 根據(jù)《商業(yè)內(nèi)幕》報導,這場7.2強震凸顯了全球芯片供應鏈和臺積電的脆弱性,臺積電是世界上最大的芯片制造商,全球大約90%的最先進處理器芯片都是臺積電生產(chǎn),而且中國臺灣也是小型芯片生產(chǎn)商的所在地。報導示警,如果大地震能夠擾亂臺積電,那么更具破
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