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消息稱三星半導體將減少 10% 晶圓投片量，EUV 產(chǎn)線成重災區(qū)
- IT之家 5 月 26 日消息，據(jù)韓媒 Aju News 報道，三星計劃自 2023 年第三季度開始，對韓國華城園區(qū) S3 工廠減少至少 10% 的晶圓投片量?！?圖源：三星報道稱，三星半導體將在第三季度開始，對華城園區(qū) S3 工廠進行減產(chǎn)作業(yè)。S3 工廠是三星半導體于 2018 年建成投產(chǎn)的 12 英寸生產(chǎn)線，目前主要生產(chǎn) 10nm 至 7nm 產(chǎn)品，也是三星半導體 EUV 先進工藝的主力生產(chǎn)廠之一，三星為其部署了多臺 ASML 的 NXE3400 EUV 光刻機。Aju News
- 關鍵字： 三星 EUV
2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機
- 5月17日消息，原本已經(jīng)落后的日本半導體制造行業(yè)近年來加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus，計劃2025年試產(chǎn)2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機。日本當前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機，不論研發(fā)還是制造都要先買設備。Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露，他們已經(jīng)完成了1臺EUV光刻機的籌備，不過具體的型號及進度沒有說明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機，何時安裝、
- 關鍵字： 日本 EUV 光刻機
ASML預測，未來九個月對中國的銷量將大幅回升
- ASML 財務總監(jiān) Roger Daasen 表示，今年未來幾個季度中國大陸的銷量將顯著回升。
- 關鍵字： ASML 光刻機 EUV 極紫外光刻機
國產(chǎn)光刻機的「行軍難」
- 3 月 8 日，ASML 發(fā)表聲明回應荷蘭政府即將出臺的半導體設備出口管制措施。ASML 稱，這些新的出口管制措施側重于先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)，ASML 將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式 DUV 系統(tǒng)。ASML 強調，這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行記者會上，有媒體提問，據(jù)報道，荷蘭外貿與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會致函稱，出于國家安全考慮，荷蘭將于今年夏天之前對其芯片出口實施限制性措施。中方對此有何評論？外交部發(fā)言人毛
- 關鍵字： 光刻機 EUV DUV
美國發(fā)起的對華聯(lián)合出口限制留下漏洞？
- 據(jù)報道，荷蘭和日本已與美國達成協(xié)議，共同限制向中國出口芯片制造工具，這將進一步削弱中國半導體行業(yè)的發(fā)展，因為除了限制中國制造商使用 EUV 光刻機外，進一步限制其使用浸沒式 DUV 光刻機。但在美國對中國發(fā)起的嚴格出口限制中，中國半導體企業(yè)是否可以利用任何關鍵漏洞來緩沖沖擊？這似乎是一個值得仔細研究的問題。近年來，美國加大了對中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設計了各種策略和行動，還動員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對向中國出口先進芯片制造工具和技術實施全面出口限制后，美國急于讓擁有 ASML
- 關鍵字： EUV DUV 深紫外光刻機
EUV光刻機開始“落幕”了
- 說到光刻機大家難免會想到三個廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機就是制造芯片的核心裝備。現(xiàn)如今光刻機領域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機，也正因為此動作，才奠定了ASML在光刻機領域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機，而且還是獨家壟斷生產(chǎn)。這就進一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展，市場就要越來越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長時間壟斷，導致其他同行沒有辦法發(fā)展。在他自身無法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
- 關鍵字： 光刻機 ASML DUV EUV
三星首次采用韓國本土EUV光刻膠 打破日企壟斷
- 據(jù)報道，三星首次引入韓國本土公司東進世美肯（Dongjin Semichem）研發(fā)的EUV光刻膠（EUV PR）進入其量產(chǎn)線，這也是三星進行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。在2019年經(jīng)歷與日本的光刻膠等關鍵原料的供應風波之后，三星就在嘗試將關鍵原料的供應本土化，經(jīng)過三年的努力，韓國實現(xiàn)了光刻膠本地化生產(chǎn)。在日本限制出口、三星嘗試重構EUV光刻膠的供應鏈之后，東進世美肯就已開始研發(fā)EUV光刻膠，并在去年通過了三星的可靠性測試，隨后不到一年就被應用于三星的大規(guī)模生產(chǎn)線。不過，EUV光刻膠可用于3-50道程序，目前
- 關鍵字： 三星 韓國 EUV 光刻膠
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