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      EEPW首頁 >> 主題列表 >> 光刻機(jī)

      刷屏的“國產(chǎn)光刻機(jī)”是真牛還是吹牛?

      • 拋開唯恐天下不亂的非專業(yè)、有偏差的報道,也排除可能光電所有意或無意的誤導(dǎo),也許我們在未來很長一段時間內(nèi)都無法打破ASML的壟斷,但是也需冷靜看待成果,為實質(zhì)進(jìn)步鼓掌。既不吹??浯螅膊涣?xí)慣偏見,更無需妄自菲薄。
      • 關(guān)鍵字: 光刻機(jī)  

      點亮中國“芯”,這件專利會是國產(chǎn)光刻機(jī)的錦鯉嗎?

      • 中美貿(mào)易大戰(zhàn)把當(dāng)今最先進(jìn)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)推上了風(fēng)口浪尖上,整個產(chǎn)業(yè)鏈上,國內(nèi)半導(dǎo)體芯片的產(chǎn)業(yè)發(fā)展就卡在IC制造這一塊上了。
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      AMSL的光刻機(jī)如何能賣上億美元?

      • 在晶圓加工設(shè)備中,光刻機(jī)所占的投資比高達(dá)30%,同時一臺AMSL的EUV光刻機(jī)售價上億美元,當(dāng)我國企業(yè)有足夠能力參與到與國際巨頭競爭之時,即是芯片技術(shù)迎頭趕上的那一天。
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      ASML看好中國市場 最先進(jìn)光刻機(jī)將入華

      •   中國集成電路制造年會近日邀請到了光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)中國區(qū)總裁沈波參加,他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題?! ”M管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德,格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā),但ASML依然對EUV光刻機(jī)的前景表示樂觀?! 〈饲坝邢⒅赋?,中芯國際(SMIC)今年已向ASML訂購了一臺EUV光刻機(jī),預(yù)計明年交付,用于7nm節(jié)點?! ⊥瑫r,傳統(tǒng)的沉浸式光刻機(jī)方面,沈波稱,今年下半年ASML已開始出貨家族最先進(jìn)的NXT:2000i,很快會在中國市場上也見到
      • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機(jī)  

      迫于美國政府壓力,光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國員工 ...

      •   在高科技領(lǐng)域,美國這一年來加強(qiáng)了對中國人的防范,不只限于美國本土,就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力,荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工?! ≡诠饪虣C(jī)領(lǐng)域,荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場,在EUV光刻機(jī)中更是獨一份,7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域,美國這一年來加強(qiáng)了對中國人的防范,不只限于美國本土,就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力,荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工。  如果說半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠,那么光刻機(jī)可以說是皇冠上的明珠,因為光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中最關(guān)
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      ASML出貨新光刻機(jī)NXT2000i:用于7nm/5nm DUV工藝

      •   據(jù)外媒報道,光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開始出貨新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i雙工件臺深紫外光刻機(jī)),可用于7nm和5nm節(jié)點?! XT:2000i將是NXE:3400B EUV光刻機(jī)的有效補(bǔ)充,畢竟臺積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝?! ⊥瑫r,NXT:2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品,達(dá)到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm,7nm要求至少3.5nm)。  ASML將于本季度末開始量產(chǎn)Twin
      • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機(jī)  

      華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進(jìn)沉浸式光刻機(jī):邁向14nm

      •   中芯國際花了1.2億美元從荷蘭ASML(阿斯麥)買來一臺EUV極紫外光刻機(jī),未來可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片,長江存儲也迎來了自己的第一臺光刻機(jī),同樣來自ASML,不過是193nm沉浸式,用于產(chǎn)20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓,7200萬美元一臺。  據(jù)集微網(wǎng)報道, 5月21日上午,在上海浦東新區(qū)康橋工業(yè)園南區(qū),華虹集團(tuán)旗下上海華力集成電路制造有限公司建設(shè)和營運的12英寸先進(jìn)生產(chǎn)線建設(shè)項目(“華虹六廠”)實現(xiàn)首臺工藝設(shè)備光刻機(jī)搬入?! ∵@臺光刻機(jī)的型號是NXT 1980Di,依然是荷蘭ASML提
      • 關(guān)鍵字: 華虹  光刻機(jī)  

      探秘中國通信芯片那些事:行業(yè)中流砥柱

      • 中美經(jīng)貿(mào)關(guān)系開始緩和,未來在高科技領(lǐng)域的合作將更多,競爭也將更加激烈。
      • 關(guān)鍵字: 芯片,光刻機(jī)  

      價值7200萬美元,長江存儲首臺光刻機(jī)運抵武漢

      •   長江存儲的首臺光刻機(jī)已于今天中午運抵武漢天河機(jī)場,設(shè)備相關(guān)的海關(guān)、商檢及邊防口岸的相關(guān)手續(xù)辦理完成后,即可運至長江存儲的工廠。據(jù)集微網(wǎng)獨家消息,這臺光刻機(jī)為ASML的193nm浸潤式光刻機(jī),售價7200萬美元,用于14nm~20nm工藝。這也從側(cè)面透露了長江存儲3D NAND閃存芯片的工藝制程。這是長江存儲的第一臺光刻機(jī),陸續(xù)還會有多臺運抵?! D:ASML的光刻機(jī)安全降落武漢天河機(jī)場,正在卸貨中  在今年的4月5日,長江存儲首批400萬美元的精密儀器開始進(jìn)場安裝,標(biāo)志著國家存儲器基地從廠房建設(shè)階段進(jìn)
      • 關(guān)鍵字: 長江存儲  光刻機(jī)  

      這些“細(xì)節(jié)”讓中國難望頂級光刻機(jī)項背

      • 真正的核心技術(shù)靠化緣是要不來的。我們還有多少亟待攻克的關(guān)鍵核心技術(shù),差距在哪,需要從哪些方面突破?
      • 關(guān)鍵字: 光刻機(jī)  

      上海微電子采購Bumotec機(jī)床 加速中國光刻機(jī)研發(fā)

      •   去年,一臺價值1.06億元設(shè)備經(jīng)空運從荷蘭飛抵廈門,由于該設(shè)備價值高,而且對保存和運輸有著很高的要求——保存溫度必須保持在23攝氏度恒溫狀態(tài)下,為了避免影響設(shè)備的精度,在運輸中也對穩(wěn)定性有極高的要求。因此,機(jī)場海關(guān)以機(jī)坪查驗的方式對該貨物實行全程機(jī)邊監(jiān)管,待貨物裝入特制溫控氣墊車后移至海關(guān)的機(jī)坪視頻監(jiān)控探頭之下,在完成緊急查驗后當(dāng)晚就放行。   沒錯,這臺設(shè)備就是荷蘭ASML的光刻機(jī)。鐵流猜測,這臺設(shè)備很有可能是廈門當(dāng)?shù)卣c臺灣聯(lián)華電子合資的晶圓廠從荷蘭ASML采購的。
      • 關(guān)鍵字: Bumotec  光刻機(jī)  

      半導(dǎo)體廠商無不識君 聊一聊隱形大佬ASML

      • ASML是集合了西方光學(xué)應(yīng)用科學(xué)與半導(dǎo)體尖端制造設(shè)備技術(shù)于一體的科技龐然大物,它的影響力是任何一個國家在半導(dǎo)體領(lǐng)域都無法忽視的。
      • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機(jī)  

      光刻機(jī)領(lǐng)域國內(nèi)接近世界先進(jìn)水平,9nm線寬光刻實現(xiàn)突破

      •   SEMICON China 2017開幕日即3月14日,上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(后簡稱“SMEE”)宣布,SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU),為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。   根據(jù)這項合作備忘錄,ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后,進(jìn)一步深入?yún)⑴c中國的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。   光刻機(jī)被稱
      • 關(guān)鍵字: 光刻機(jī)  ASML   

      耗費巨資購買EUV光刻機(jī) 臺積電有何打算?

      • 臺積電、三星與英特爾之間先進(jìn)制程的戰(zhàn)局依舊如火如荼的展開,三方比拼毫不手軟。
      • 關(guān)鍵字: 臺積電  光刻機(jī)  

      片內(nèi)相位測量工具模擬光刻機(jī)

      • 關(guān)鍵字:片內(nèi)相位測量 模擬光刻機(jī)采用特殊照明方式的高/超高數(shù)值孔徑(NA)的193nm光刻機(jī)和相位移掩膜版(PSM),使得光刻分辨率的極限達(dá)到了32nm節(jié)點。不利的因素是掩膜的復(fù)雜度正在以指數(shù)級遞增,而業(yè)界又迫切需要
      • 關(guān)鍵字: 相位測量  模擬  光刻機(jī)    
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      光刻機(jī)介紹

      國外半導(dǎo)體設(shè)備 我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺, 金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺。 濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機(jī),300毫米清洗機(jī),。 如您感興趣請登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細(xì) ]

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