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            EEPW首頁 >> 主題列表 >> 光刻機

            光刻機制造商ASML:疫情中公司訂單依然強勁

            • 據(jù)外媒報道,由于擔心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性,三星和臺積電的半導體設備供應商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績預期。不過,這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻設備的荷蘭公司補充說,該公司的設備訂單依然強勁,需求也沒有變化。ASML首席執(zhí)行官彼得·溫寧克(Peter Wennink)說:“需求前景沒有變化,今年我們沒有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當前形勢充滿挑戰(zhàn),但到目前為止,我們能夠繼續(xù)保持正常業(yè)務?!钡珳貙幙搜a充說:“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發(fā)展、終端市場、我們的制造能力以及
            • 關鍵字: 光刻機  ASML  

            EUV光刻機訂單少了?ASML下調(diào)Q1季度營收預期 暫停股票回購

            • 由于COVID-19新冠病毒在全球的蔓延,多個行業(yè)的生產(chǎn)、消費都受到影響了,半導體行業(yè)也不例外。ASML公司今天宣布下調(diào)Q1季度營收預期,同時暫停股票回購,不過他們沒公布EUV光刻機出貨量是否受影響了。今年1月份ASML公司發(fā)布了2019年Q4及全年財報,2019年交付了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。展望2020年Q1季度,ASML之前預計營收31到33億歐元之間,毛利率46%到47%之間,研發(fā)費用約為5.5億歐
            • 關鍵字: 阿斯麥  光刻機  極紫外光刻  

            引入EUV技術的6nm,才是真正的6nm

            • 只有引入EUV技術的6nm才是真正的6nm,而這項技術也將伴隨未來可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
            • 關鍵字: EUV  6nm  光刻機  

            90%市場被國外廠商壟斷 光刻膠國產(chǎn)化急需提速!

            • 近年來,雖然中國在芯片設計領域有了突飛猛進的發(fā)展,涌現(xiàn)出了一批以華為海思為代表的優(yōu)秀的芯片設計企業(yè),但是在芯片制造領域,中國與國外仍有著不小的差距。不僅在半導體制程工藝上落后國外最先進工藝近三代,特別是在芯片制造所需的關鍵原材料方面,與美日歐等國差距更是巨大。即便強大如韓國三星這樣的巨頭,在去年7月,日本宣布限制光刻膠、氟化聚酰亞胺和高純度氟化氫等關鍵原材料對韓國的出口之后,也是被死死的“卡住了脖子”,急得如熱鍋上的螞蟻,卻又無可奈何。最后還是日本政府解除了部分限制之后,才得以化解了危機。而在美國制裁中興
            • 關鍵字: CPU處理器  光刻機  光刻膠  

            ASML研發(fā)下一代EUV光刻機:分辨率提升70% 逼近1nm極限

            • 在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮
            • 關鍵字: 光刻機  極紫外光刻  

            ASML研發(fā)下一代EUV光刻機:分辨率提升70% 逼近1nm極限

            • 在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮
            • 關鍵字: 光刻機  極紫外光刻  

            佳能產(chǎn)日本首臺半導體光刻機PPC-1發(fā)售50周年:半導體器件這樣煉成

            • 半導體器件被廣泛應用于從智能手機到汽車等各個領域,在其制造過程中半導體光刻機必不可少。你知道嗎,日本首臺半導體光刻機發(fā)售已經(jīng)50周年了。今日,佳能中國宣布,佳能產(chǎn)日本首臺半導體光刻機PPC-1發(fā)售50周年。佳能PPC-1于1970年發(fā)售,隨著數(shù)字技術的迅速發(fā)展,佳能的半導體光刻機也在不斷升級。首臺日本產(chǎn)半導體光刻機PPC-1據(jù)悉,佳能光刻機的歷史始于對相機鏡頭技術的高度應用。靈活運用20世紀60年代中期在相機鏡頭開發(fā)中積累的技術,佳能研發(fā)出了用于光掩膜制造的高分辨率鏡頭。此后,為了進一步擴大業(yè)務范圍,佳能
            • 關鍵字: 佳能  光刻機  

            高景深步進式光刻機等多個集成電路項目落地浙江海寧

            • 日前,浙江海寧市舉行2020年1月“雙招雙引”項目集中簽約儀式,17個項目落戶海寧,總投資達24億元。
            • 關鍵字: 光刻機  浙江海寧  集成電路  

            弘芯半導體ASML高端光刻機進場 第三家國產(chǎn)14nm工藝來了

            • 12月22日,位于湖北武漢的弘芯半導體發(fā)布公告,該廠為首臺高端光刻機設備進廠舉行了隆重的進廠儀式,雖然官方?jīng)]有公布具體信息,但可以確定是一臺ASML的高端光刻機,售價也是數(shù)千萬美元級別的。根據(jù)湖北媒體之前的報道,弘芯半導體制造產(chǎn)業(yè)園是2018年武漢單個最大投資項目,位于臨空港經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)臨空港大道西側,規(guī)劃用地面積636畝,建筑面積65萬平方米,總投資1280億元。該項目2017年已投入建設資金520億元,2018年第二期項目再投資760億元,擬建設芯片生產(chǎn)制造基地及配套企業(yè)。項目計劃于2019年上半年
            • 關鍵字: 阿斯麥  光刻機  

            中芯國際稱7nm EUV光刻機問題已解決 技術研發(fā)步入正軌

            • 在半導體工藝進入10nm節(jié)點之后,制造越來越困難,其中最復雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機了,而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機,日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機的問題,EUV技術研發(fā)步入正軌。前不久有消息稱ASML停止對中芯國際供應EUV光刻機,隨后ASML公司表示不是停供,而是延期,主要是在準備該國政府的出口申請文本工作。中芯國際董事長周子學日前在韓國訪問,韓媒報道稱周子學表態(tài)已經(jīng)解決了與ASML之間就光刻機供應存在的問題,強調(diào)中芯國際在先進
            • 關鍵字: 光刻機  極紫外光刻  

            唯一打破ASML光刻機雙工臺技術壟斷:華卓精科擬登陸科創(chuàng)板

            • 近年來,隨著國家的大力支持以及國內(nèi)市場需求的快速增長,國產(chǎn)半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛,而在關鍵的國產(chǎn)半導體設備領域也有了不小的進步。比如在硅刻蝕機領域,北方華創(chuàng)實現(xiàn)了14nm設備的突破,同時也在去年實現(xiàn)了適用于8英寸晶圓的金屬刻蝕機的研發(fā)和生產(chǎn)。已經(jīng)登錄科創(chuàng)板的中微半導體自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電驗證,性能優(yōu)良,將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。但是在晶圓制造環(huán)節(jié)更為關鍵的光刻機領域,卻仍與國外有著巨大的差距。目前荷蘭的ASML是全球最大的光刻機制造商,占據(jù)了全球光刻機市場(按銷售計)的近90%的市場份
            • 關鍵字: 阿斯麥  光刻機  

            國家半導體大基金二期募資2041億 國產(chǎn)EUV光刻機有望解決?

            • 據(jù)報道,第二期國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金——也就是大基金,已經(jīng)在10月22日注冊成立,注冊資本高達2041.5億元,比第一期的1387.2億元高出一半多,最快11月份開始投資,這次投資重點是半導體裝備及材料行業(yè)。為了推動半導體行業(yè)投資,2014年國務院發(fā)布《國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進綱要》,提出要設立國家產(chǎn)業(yè)投資基金。2014 年9月24日,國家財政部、國開金融、中國煙草、亦莊國投、中國移動、上海國盛、中國電子、中國電科、華芯投資等共同發(fā)起“國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金”,這就是俗稱的大基金。目前,國家
            • 關鍵字: 光刻機  

            EUV光刻機將如何發(fā)展?

            • AI、5G應用推動芯片微縮化,要實現(xiàn)5nm、3nm等先進制程,意味著需要更新穎的技術支援以進行加工制造,半導體設備商遂陸續(xù)推出新一代方案。AI、5G應用推動晶片微縮化,要實現(xiàn)5nm、3nm等先進制程,意味著需要更新穎的技術支援以進行加工制造,為此,艾司摩爾(ASML)持續(xù)強化極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)效能。艾司摩爾(ASML)資深市場策略總監(jiān)Boudewijn Sluijk表示,VR/AR、自動駕駛、5G、大數(shù)據(jù)及AI等,持續(xù)推動半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展,為滿足各式應用、資料傳輸,以及演算法需求,芯片效能不斷提高的
            • 關鍵字: 光刻機  

            繼半導體材料后,光刻機相關設備市場或受日韓貿(mào)易戰(zhàn)影響

            • 在半導體設備的供應商名單中,前15大廠商營收占總產(chǎn)值超過8成,由于半導體制造廠商在設備選擇上多屬于長期合作模式,因而形成目前半導體設備廠商大者恒大的態(tài)勢。
            • 關鍵字: 半導體  光刻機  日韓貿(mào)易戰(zhàn)  

            北京加快突破光刻機“卡脖子”難題

            • 我國正加速實現(xiàn)中高端光刻機的國產(chǎn)化。近日,亦莊企業(yè)北京國望光學科技有限公司增資項目在北京產(chǎn)權交易所完成。通過此次增資,國望光學引入中國科學院長春光學精密機械與物理研究所和中國科學院上海光學精密機械研究所作為戰(zhàn)略投資者,兩家機構以無形資產(chǎn)作價10億元入股,對應持股比例為33.33%。這意味著北京在推動國產(chǎn)光刻機核心部件生產(chǎn)方面邁出實質(zhì)性步伐,將加快突破國產(chǎn)中高端光刻機制造“卡脖子”技術難題。
            • 關鍵字: 光刻機  北京  芯片  
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