光刻機(jī) 文章 進(jìn)入光刻機(jī)技術(shù)社區(qū)
佳能尼康,是怎么被ASML甩開的
- 10 月,光刻機(jī)大廠佳能(Canon)公司通過新聞稿宣布,其已經(jīng)開始銷售基于「納米印刷」(Nanoprinted lithography)技術(shù)的芯片生產(chǎn)設(shè)備 FPA-1200NZ2C。佳能表示,該設(shè)備采用不同于復(fù)雜光刻技術(shù)的方案,可以制造 5nm 芯片。消息一出,不少人發(fā)現(xiàn)這種設(shè)備已經(jīng)達(dá)到了 EUV 光刻機(jī)的水平,甚至將顛覆行業(yè)巨頭 ASML。自從 ASML 成功取代尼康佳能,成為高端光刻機(jī)的唯一王者之后,這還是第一次傳出這么震撼的消息。日本的光刻機(jī),從稱霸到被甩開,經(jīng)歷了什么?來自上個(gè)世紀(jì)的光鮮上世紀(jì)末
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光刻機(jī)巨頭 ASML 第三季度凈利潤 19 億歐元,今年銷售額預(yù)計(jì)增長 30%
- IT之家 10 月 18 日消息,光刻機(jī)巨頭 ASML 今日公布了第三季度財(cái)務(wù)業(yè)績,凈銷售額為 67 億歐元(IT之家備注:當(dāng)前約 517.91 億元人民幣),凈利潤為 19 億歐元(當(dāng)前約 146.87 億元人民幣),環(huán)比都稍有下降,毛利率為 51.9%?!?官方圖片錯(cuò)誤,最后一列是 2023 年第三季度ASML 第三季度季度凈預(yù)訂額為 26 億歐元(當(dāng)前約 200.98 億元人民幣),其中 EUV 預(yù)訂額為 5 億歐元(當(dāng)前約 38.65 億元人民幣)。ASML 預(yù)計(jì) 2023 年第四季度凈
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非光刻方案,佳能開始銷售 5nm 芯片生產(chǎn)設(shè)備
- IT之家 10 月 14 日消息,佳能(Canon)公司近日發(fā)布新聞稿,開始銷售芯片生產(chǎn)設(shè)備 FPA-1200NZ2C,表示采用不同于復(fù)雜光刻技術(shù)的方案,可以制造 5 nm 芯片。佳能表示這套生產(chǎn)設(shè)備的工作原理和行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者 ASML 不同,并非光刻,而更類似于印刷,沒有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到硅晶圓上。這套設(shè)備可以應(yīng)用于最小 14 平方毫米的硅晶圓,從而可以生產(chǎn)相當(dāng)于 5nm 工藝的芯片。佳能表示會(huì)繼續(xù)改進(jìn)和發(fā)展這套系統(tǒng),未來有望用于生產(chǎn) 2nm 芯片。IT之家注:納米印刷(
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俄羅斯正在開發(fā)可替代光刻機(jī)的芯片制造工具
- 近期,俄羅斯國際新聞通訊社報(bào)道,俄羅斯在開發(fā)可以替代光刻機(jī)的芯片制造工具。據(jù)悉,圣彼得堡理工大學(xué)的研究人員開發(fā)出了一種“光刻復(fù)合體”,可用于蝕刻生產(chǎn)無掩模芯片,這將有助于俄羅斯在微電子領(lǐng)域技術(shù)領(lǐng)域獲得主動(dòng)權(quán)。該設(shè)備綜合體包括用于無掩模納米光刻和等離子體化學(xué)蝕刻的設(shè)備,其中一種工具的成本為500萬盧布(約36.7萬元人民幣),另一種工具的成本未知。開發(fā)人員介紹,傳統(tǒng)光刻技術(shù)需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。該裝置由專業(yè)軟件控制,可實(shí)現(xiàn)完全自動(dòng)化,隨后的另外一臺(tái)設(shè)備可直接用于形成納米結(jié)構(gòu),但也可以制作硅膜,例如
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ASML再次改口!國家迅速回應(yīng),外媒:荷蘭將光刻機(jī)事情鬧大了
- 近年來,光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展迅猛,成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要一環(huán)。ASML公司作為全球光刻機(jī)行業(yè)的龍頭企業(yè),其對(duì)華出口光刻機(jī)的態(tài)度一直備受關(guān)注。然而,最近ASML公司的態(tài)度再次發(fā)生變化,引發(fā)了國家的迅速回應(yīng)。荷蘭的決定被外媒認(rèn)為將光刻機(jī)事情鬧大了。本文將分別從ASML公司態(tài)度的變化、荷蘭及日本的對(duì)華出口管控、ASML公司的技術(shù)依賴和市場地位、我國光刻機(jī)技術(shù)的突破、ASML公司對(duì)華出口限制的影響以及中企自主掌握核心技術(shù)等方面進(jìn)行分析。ASML公司對(duì)華出口光刻機(jī)態(tài)度的變化ASML公司在對(duì)華出口光刻機(jī)的態(tài)度上一直搖擺不定。
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光刻機(jī)發(fā)展要另辟蹊徑?
- 最近,光刻機(jī)話題異?;馃幔坪跞澜缍荚陉P(guān)注中國本土相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。要想制造出一臺(tái)可商用的高端光刻機(jī)(可制造 7nm 及更先進(jìn)制程芯片),是一項(xiàng)復(fù)雜的工程,因?yàn)楦叨斯饪虣C(jī)所需要的精密零部件太多了,每一種的技術(shù)含量都非常高,而且,要想把這些零部件組合成一臺(tái)可用的機(jī)器,需要長期的技術(shù)和實(shí)踐積累。光刻這個(gè)概念,有廣義和狹義之分。在狹義層面,就是用光去「復(fù)印」集成電路圖案,這也是我們常說的光學(xué)光刻技術(shù),特別是紫外線光刻技術(shù)(DUV 和 EUV)。在廣義層面,光刻泛指各種集成電路「復(fù)印」和「印刷」技術(shù),這些技術(shù)中,
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國產(chǎn)光刻機(jī)工廠落地雄安?中國電子院澄清:這是北京高能同步輻射光源
- 近期,一則消息在各大視頻平臺(tái)廣為傳播,稱清華大學(xué)EUV項(xiàng)目把ASML的光刻機(jī)巨大化,實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)國產(chǎn)化,并表示這個(gè)項(xiàng)目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地。對(duì)此,中國電子工程設(shè)計(jì)院有限公司(下稱中國電子院)9月18日發(fā)聲,稱該項(xiàng)目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機(jī)工廠,而是北京高能同步輻射光源項(xiàng)目(HEPS)。北京高能同步輻射光源項(xiàng)目坐落于北京懷柔雁棲湖畔,是國家“十三五”重大科技基礎(chǔ)設(shè)施,它是我國第一臺(tái)高能量同步輻射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項(xiàng)目早在2019年就開始建設(shè)、將于2025年底投入使用。北京高能同步
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光刻機(jī)之爭掀起第三波浪潮
- 當(dāng)下,光刻機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)的地位前所未有的重要,而且已經(jīng)突破了技術(shù)和產(chǎn)業(yè)范疇,引發(fā)了新一波光刻機(jī)之爭。從歷史發(fā)展情況來看,光刻機(jī)(這里主要指用于制造集成電路前道工序的光刻機(jī))的發(fā)展和應(yīng)用經(jīng)歷了很多波折,總體來看,有兩個(gè)值得關(guān)注的時(shí)期,一個(gè)是 ASML 依靠浸沒式技術(shù),異軍突起,并將原本的行業(yè)兩強(qiáng)甩在身后,這是技術(shù)之戰(zhàn),另一個(gè)是 EUV 商用化之后,先進(jìn)制程(從 16nm 開始)爭奪戰(zhàn)打響,臺(tái)積電、三星電子和英特爾這三家為了爭奪產(chǎn)量有限的 EUV 而展開競爭,這是商業(yè)之爭。從目前的情況來看,第三波光刻機(jī)之爭正
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尼康推出新一代步進(jìn)式光刻機(jī)“NSR-2205iL1”,2024 年夏季上市
- IT之家 9 月 6 日消息,尼康宣布推出新一代具有 5 倍縮小投影倍率的 i-line 步進(jìn)式光刻機(jī)“NSR-2205iL1”,預(yù)計(jì) 2024 年夏季上市。據(jù)稱,這種光刻機(jī)具有縮小投影放大系統(tǒng),支持功率半導(dǎo)體、通信半導(dǎo)體和 MEMS 等多種產(chǎn)品,并且與尼康現(xiàn)有的 i-line 曝光設(shè)備高度兼容;NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步進(jìn)技術(shù)在過去二十五年中的最重大的更新,將可直接響應(yīng)客戶對(duì)這些在芯片制造中發(fā)揮重要作用的光刻系統(tǒng)的需求。尼康表示,與現(xiàn)有的尼康 i-line 曝光系統(tǒng)相比,NS
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日本與荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄:采購 ASML 光刻機(jī),加強(qiáng)技術(shù)合作

- IT之家 6 月 26 日消息,據(jù)日本經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)道,日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟(jì)事務(wù)和氣候政策部在東京簽署了半導(dǎo)體合作備忘錄。二者將共同推進(jìn)欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML 的合作,并聯(lián)手進(jìn)行技術(shù)開發(fā)?!?圖源:ASML報(bào)道稱,ASML 量產(chǎn)尖端半導(dǎo)體工藝所需的 EUV 光刻機(jī)。Rapidus 計(jì)劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補(bǔ)貼,采購 EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到,EUV 光刻機(jī)在全球范圍內(nèi)較為短缺,面臨著臺(tái)積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報(bào)道指出,如果 Ra
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開始1-γ芯片制程開發(fā)?美光日本廠擬引入ASML光刻機(jī)
- 知情人士稱,美國美光科技公司準(zhǔn)備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進(jìn)芯片制造設(shè)備EUV(極紫外光刻機(jī)),以制造下一代存儲(chǔ)芯片(DRAM)。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元(15億美元)的補(bǔ)貼。日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實(shí)了美光在日的進(jìn)一步投資。他指出,日本政府正與臺(tái)積電討論擴(kuò)大在日投資的可能性,美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進(jìn)存儲(chǔ)芯片。今日(周四),日本首相岸田文雄會(huì)見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團(tuán),而有關(guān)芯片的詳細(xì)計(jì)劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
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2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機(jī)
- 5月17日消息,原本已經(jīng)落后的日本半導(dǎo)體制造行業(yè)近年來加快了追趕速度,去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus,計(jì)劃2025年試產(chǎn)2nm工藝,而且很快就籌備了EUV光刻機(jī)。日本當(dāng)前的邏輯工藝還在28nm以上,但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝,直接搞2nm工藝,而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機(jī),不論研發(fā)還是制造都要先買設(shè)備。Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露,他們已經(jīng)完成了1臺(tái)EUV光刻機(jī)的籌備,不過具體的型號(hào)及進(jìn)度沒有說明,不確定是ASML的哪款EUV光刻機(jī),何時(shí)安裝、
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在光刻機(jī)新技術(shù)的研發(fā)上, 我們似乎又掉隊(duì)了
- 目前全球僅4家廠商,能夠制造光刻機(jī),分別是荷蘭的ASML,日本的尼康、佳能,和上海的微電子。從技術(shù)水平來看,ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示,ASML的光刻機(jī)能夠達(dá)到3nm的精度了,而尼康的主要在28nm及以上,而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個(gè)數(shù)字,這是某機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì)的,2021年全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)的銷售情況,從這張表可以看出來,小米7nm的EUV光刻機(jī),ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機(jī)上,僅有尼康、ASML能夠推出,尼康也就是打醬油,僅賣出4臺(tái),另外的
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ASML預(yù)測,未來九個(gè)月對(duì)中國的銷量將大幅回升

- ASML 財(cái)務(wù)總監(jiān) Roger Daasen 表示,今年未來幾個(gè)季度中國大陸的銷量將顯著回升。
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ASML:2023年光刻機(jī)市場需求將超出產(chǎn)能

- 受消費(fèi)電子市場低迷影響,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁入下行周期,上游半導(dǎo)體設(shè)備也因客戶去庫存、調(diào)整訂單受到影響。不過,光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML發(fā)布的最新財(cái)報(bào)顯示,盡管光刻機(jī)業(yè)務(wù)遭遇一定挑戰(zhàn),但未來產(chǎn)業(yè)前景仍舊向好。01EUV/DUV收入超預(yù)期增長,半導(dǎo)體需求結(jié)構(gòu)性分化4月19日,ASML發(fā)布2023年第一季度財(cái)報(bào),該季ASML實(shí)現(xiàn)了凈銷售額67億歐元,毛利率為50.6%,凈利潤達(dá)20億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為38億歐元,其中16億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2023年第二季度的凈銷售額約為65億~70億歐
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光刻機(jī)介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺(tái),
金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺(tái)。
濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機(jī),300毫米清洗機(jī),。
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