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            EEPW首頁 > 測(cè)試測(cè)量 > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > 半導(dǎo)體C-V測(cè)量基礎(chǔ)

            半導(dǎo)體C-V測(cè)量基礎(chǔ)

            作者:吉時(shí)利儀器公司 時(shí)間:2009-07-28 來源: 收藏

              這些測(cè)量考慮了與電容相關(guān)的串聯(lián)與并聯(lián)電阻,以及耗散因子(漏流)。圖4給出了這類測(cè)量可以測(cè)出的主要電路變量。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/96649.htm

             

                                   z, theta:阻抗與相角

                                    R+jX:電阻與電抗

                                    Cp-Gp:并聯(lián)電容與電導(dǎo)

                                    Cs-Rs:串聯(lián)電容與電阻

                                                                                                      其中:Z=阻抗

            D=耗散因子

            θ=相角

            R=電阻

            X=電抗

            G=電導(dǎo)

            4. C-V測(cè)量得到的主要電氣變量

            成功C-V測(cè)量的挑戰(zhàn)

            C-V測(cè)試配置的框圖雖然看上去非常簡單,但是這種測(cè)試卻具有一定的挑戰(zhàn)。一般而言,測(cè)試人員在下面幾個(gè)方面會(huì)遇到麻煩:

            · 低電容測(cè)量(皮法和更小的值)

            · C-V測(cè)試儀器與圓片器件的連接

            · 漏電容(高D)的測(cè)量

            · 利用硬件和軟件采集數(shù)據(jù)

            · 參數(shù)提取



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