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            博客專欄

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            臺積電官宣1.6nm,多項新技術(shù)同時公布

            發(fā)布人:傳感器技術(shù) 時間:2024-04-25 來源:工程師 發(fā)布文章

            臺積電周三表示,一種名為“A16”的新型芯片制造技術(shù)將于 2026 年下半年投入生產(chǎn),與長期競爭對手英特爾展開對決——誰能制造出世界上最快的芯片。


            臺積電是全球最大的先進計算芯片合同制造商,也是 Nvidia 和蘋果的主要供應商,臺積電在加利福尼亞州圣克拉拉舉行的一次會議上宣布了這一消息,臺積電高管表示,人工智能芯片制造商可能是該技術(shù)的首批采用者,而不是智能手機制造商。


            分析師告訴路透社,周三宣布的技術(shù)可能會讓人對英特爾在 2 月份聲稱的將超越臺積電,采用英特爾稱之為“14A”的新技術(shù)制造世界上最快的計算芯片的說法提出質(zhì)疑。


            臺積電業(yè)務發(fā)展高級副總裁Kevin Zhang告訴記者,由于人工智能芯片公司的需求,該公司開發(fā)新的 A16 芯片制造工藝的速度比預期更快,但沒有透露具體客戶的名稱。


            張說,人工智能芯片公司“真的希望優(yōu)化他們的設計,以獲得我們擁有的每一盎司性能”。


            張說,臺積電認為不需要使用ASML的High NA EUV光刻機用于構(gòu)建 A16 芯片的新型“高 NA EUV”光刻工具機。英特爾上周透露,它計劃成為第一個使用這些機器(每臺售價 3.73 億美元)來開發(fā)其 14A 芯片的公司。


            臺積電還透露了一項從芯片背面為計算機芯片供電的新技術(shù),有助于加快AI芯片的速度,并將于2026年推出。英特爾已經(jīng)宣布了一項類似的技術(shù),旨在成為其主要競爭優(yōu)勢之一。


            臺積電表示,隨著臺積電行業(yè)領先的 N3E 技術(shù)現(xiàn)已投入生產(chǎn),N2 也有望在 2025 年下半年投入生產(chǎn),臺積電推出了 A16,這是其路線圖上的下一個技術(shù)。A16 將把臺積電的 Super Power Rail 架構(gòu)與其納米片晶體管結(jié)合起來,計劃于 2026 年生產(chǎn)。它通過將前端布線資源專用于信號來提高邏輯密度和性能,使 A16 成為具有復雜信號路線和密集電力傳輸網(wǎng)絡的 HPC 產(chǎn)品的理想選擇。與臺積電的N2P工藝相比,A16將在相同Vdd(正電源電壓)下提供8-10%的速度提升,相同速度下功耗降低15-20%,并為數(shù)據(jù)中心產(chǎn)品提供高達1.10倍的芯片密度提升。


            分析師表示,這些公告讓人對英特爾聲稱將重新奪回世界芯片制造桂冠的說法產(chǎn)生了質(zhì)疑。


            分析公司 TechInsights 副主席丹·哈奇森 (Dan Hutcheson) 在談到英特爾時表示:“這是有爭議的,但從某些指標來看,我認為他們并不領先?!钡?TIRIAS Research 負責人 Kevin Krewell 警告稱,英特爾和臺積電的技術(shù)距離交付技術(shù)還需要數(shù)年時間,需要證明真正的芯片與其主題演講相匹配。


            據(jù)報道,臺積電的新技術(shù)在北美的技術(shù)會議上宣布的,據(jù)介紹,這是公司在北美舉辦的第三世界會議。據(jù)相關(guān)報道,公司在會議上還公布了以下技術(shù):


            TSMC NanoFlex 納米片晶體管創(chuàng)新:臺積電即將推出的 N2 技術(shù)將與 TSMC NanoFlex 一起推出,這是該公司在設計技術(shù)協(xié)同優(yōu)化方面的下一個突破。TSMC NanoFlex 為設計人員提供了 N2 標準單元(芯片設計的基本構(gòu)建模塊)的靈活性,短單元(short cells)強調(diào)小面積和更高的功率效率,而高單元(tall cells)則最大限度地提高性能??蛻裟軌蛟谕辉O計模塊中優(yōu)化短單元和高單元的組合,調(diào)整其設計以實現(xiàn)其應用的最佳功耗、性能和面積權(quán)衡。


            N4C 技術(shù):臺積電宣布推出 N4C,將臺積電的先進技術(shù)推向更廣泛的應用領域,它是 N4P 技術(shù)的延伸,可降低高達 8.5% 的芯片成本,且采用成本低,計劃于 2025 年量產(chǎn)。N4C 提供面積高效的基礎IP 和設計規(guī)則與廣泛采用的 N4P 完全兼容,通過減小芯片尺寸而提高產(chǎn)量,為價值層產(chǎn)品遷移到臺積電的下一個先進技術(shù)節(jié)點提供了經(jīng)濟高效的選擇。


            CoWoS 、SoIC 和晶圓系統(tǒng) (TSMC-SoW):臺積電的基板晶圓上芯片 (CoWoS ) 允許客戶封裝更多處理器內(nèi)核和高帶寬內(nèi)存,成為人工智能革命的關(guān)鍵推動者(HBM) 并排堆疊在一個中介層上。與此同時,我們的集成芯片系統(tǒng) (SoIC) 已成為 3D 芯片堆疊的領先解決方案,客戶越來越多地將 CoWoS 與 SoIC 和其他組件搭配使用,以實現(xiàn)最終的系統(tǒng)級封裝 (SiP) 集成。


            借助晶圓系統(tǒng),臺積電提供了一種革命性的新選項,可在 300 毫米晶圓上實現(xiàn)大量芯片,提供更強的計算能力,同時占用更少的數(shù)據(jù)中心空間,并將每瓦性能提高幾個數(shù)量級。臺積電的首款 SoW 產(chǎn)品是一種基于集成扇出 (InFO) 技術(shù)的純邏輯晶圓,現(xiàn)已投入生產(chǎn)。利用 CoWoS 技術(shù)的晶圓上芯片版本計劃于 2027 年準備就緒,能夠集成 SoIC、HBM 和其他組件,以創(chuàng)建強大的晶圓級系統(tǒng),其計算能力可與數(shù)據(jù)中心服務器機架甚至整個服務器相媲美。服務器。


            硅光子集成:臺積電正在開發(fā)緊湊型通用光子引擎(COUPE)技術(shù),以支持人工智能熱潮帶來的數(shù)據(jù)傳輸爆炸式增長。COUPE 使用 SoIC-X 芯片堆疊技術(shù)將電氣芯片堆疊在光子芯片之上,從而在芯片間接口處提供最低的阻抗,并且比傳統(tǒng)的堆疊方法具有更高的能效。臺積電計劃在 2025 年使 COUPE 獲得小型可插拔產(chǎn)品的資格,然后在 2026 年作為共封裝光學器件 (CPO) 集成到 CoWoS 封裝中,將光學連接直接引入封裝中。


            汽車先進封裝:在2023年推出N3AE“Auto Early”工藝后,臺積電通過將先進硅與先進封裝相集成,繼續(xù)滿足汽車客戶對更強計算能力的需求,滿足高速公路的安全和質(zhì)量要求。臺積電正在開發(fā)適用于高級駕駛輔助系統(tǒng) (ADAS)、車輛控制和車輛中央計算機等應用的 InFO-oS 和 CoWoS-R 解決方案,目標是在 2025 年第四季度之前獲得 AEC-Q100 2 級資格。


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