12月28日消息，據(jù)外媒tomshardware報(bào)道，晶圓代工大廠臺(tái)積電在IEDM大會(huì)上分享了其最新的Roadmap，計(jì)劃在2023年推出1nm級(jí)的A10制程，實(shí)現(xiàn)單個(gè)芯片上集成200億個(gè)晶體管，并依托于先進(jìn)封裝技術(shù)，實(shí)現(xiàn)單個(gè)封裝上集成1萬(wàn)億個(gè)晶體管的目標(biāo)。

具體來(lái)說(shuō)，根據(jù)臺(tái)積電的計(jì)劃，首先會(huì)在2025年量產(chǎn)2nm級(jí)的N2制程，2026年左右量產(chǎn)N2P制程，屆時(shí)將會(huì)采用新的通道材料、EUV、金屬氧化物ESL、自對(duì)齊線w / Flexible Space、低損傷/硬化Low-K & 新型銅填充等技術(shù)，將實(shí)現(xiàn)單顆芯片集成超過(guò)1000億個(gè)晶體管，同時(shí)借助先進(jìn)的3D封裝技術(shù)，實(shí)現(xiàn)單個(gè)封裝集成超過(guò)5000個(gè)晶體管。

在2027年之后，臺(tái)積電還將量產(chǎn)1.4nm級(jí)的A14制程，2030年將量產(chǎn)1nm級(jí)的A10制程，實(shí)現(xiàn)單芯片集成超過(guò)2000億個(gè)晶體管，借助3D封裝技術(shù)，實(shí)現(xiàn)單個(gè)封裝內(nèi)集成超過(guò)1萬(wàn)億個(gè)晶體管。

雖然近年來(lái)，摩爾定律的推進(jìn)持續(xù)放緩，但是臺(tái)積電深信，隨著2nm、1.4nm和1nm制程推出，未來(lái)五六年內(nèi)，半導(dǎo)體芯片仍能在性能、功耗和晶體管密度進(jìn)一步提升。

目前市場(chǎng)上最復(fù)雜的單片處理器之一就是英偉達(dá)（Nvidia）的GH100，擁有800億個(gè)晶體管。臺(tái)積電表示，不久將出現(xiàn)更復(fù)雜的單晶片，晶體管數(shù)量將超過(guò)1000億個(gè)，但制程上會(huì)越來(lái)越復(fù)雜，成本也會(huì)變高，因此許多公司會(huì)選擇多芯片封裝設(shè)計(jì)，如AMD MI300X和英特爾Ponte Vecchio就由幾十個(gè)芯片組成。

編輯：芯智訊-浪客劍