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            博客專(zhuān)欄

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            HBM 4,SK海力士確認(rèn)

            發(fā)布人:旺材芯片 時(shí)間:2024-01-02 來(lái)源:工程師 發(fā)布文章

            雖然2023 年記憶體市場(chǎng)低迷,不過(guò),SK 海力士卻把握住了伺服器市場(chǎng)更換DDR5記憶體及生成式人工智能(AI)爆發(fā)的機(jī)會(huì),憑借針對(duì)性的產(chǎn)品線和市場(chǎng)策略,拿下了不少市場(chǎng)占有率。而且,在成為英偉達(dá)高頻寬記憶體的合作伙伴之后,SK海力士延續(xù)了HBM市場(chǎng)的領(lǐng)導(dǎo)地位,甚至出現(xiàn)了「贏家通吃」的局面。


            近日,SK海力士在介紹2024年儲(chǔ)存產(chǎn)品線的時(shí)候,已確認(rèn)2024年將啟動(dòng)下一代HBM4的開(kāi)發(fā)工作,為資料中心和人工智慧產(chǎn)品提供動(dòng)力。其實(shí),在2023年在第四季,包括三星和美光就已先后確認(rèn)正在開(kāi)發(fā)HBM4,預(yù)計(jì)分別在2025年和2026年正式推出。


            HBM已經(jīng)經(jīng)過(guò)5個(gè)世代的發(fā)展,其中在HBM3E是HBM3的擴(kuò)展版本,而HBM4將是第6 代產(chǎn)品。SK海力士表示,HBM3E會(huì)在2024年進(jìn)入大量生產(chǎn),而啟動(dòng)HBM4的開(kāi)發(fā)工作代表著HBM產(chǎn)品的持續(xù)發(fā)展邁出了重要的一步。


            先前有報(bào)導(dǎo)指出,下一代HBM4 設(shè)計(jì)會(huì)有重大的變化,記憶體堆疊將采用2048位元介面。事實(shí)上,自2015年以來(lái),每個(gè)HBM堆疊都是采用1024位元介面。因此,將位元頻寬翻倍是HBM 記憶體技術(shù)推出后最大的變化。如果HBM4能保持現(xiàn)有的接腳速度,代表著頻寬將從現(xiàn)在HBM3E的1.15TB/s,提升到2.3TB/s的水準(zhǔn),提升會(huì)相當(dāng)明顯。


            另外,預(yù)計(jì)HBM4在堆疊的層數(shù)上也有所變化,除了首批的12層垂直堆疊之外,2027年還將有16層垂直堆疊的產(chǎn)品。同時(shí)HBM還會(huì)往更為客制化的方向發(fā)展,不僅將安裝在SoC主芯片旁邊,部分還會(huì)轉(zhuǎn)向堆疊在主芯片之上,為其提供帶來(lái)更大的效益。


            擴(kuò)展閱讀:


            SK海力士正在加速開(kāi)發(fā)新工藝“混合鍵合”,以保持其在高帶寬存儲(chǔ)器(HBM)領(lǐng)域的全球領(lǐng)先地位。業(yè)界正在密切關(guān)注SK海力士能否率先應(yīng)用這一夢(mèng)想封裝技術(shù),從而繼續(xù)引領(lǐng)特種內(nèi)存領(lǐng)域。


            據(jù)行業(yè)官員12月18日透露,SK海力士本月在美國(guó)舉行的全球半導(dǎo)體會(huì)議IEDM 2023上宣布,其已確保HBM制造中使用的混合鍵合工藝的可靠性。SK海力士報(bào)告稱,其第三代HBM(HBM2E)采用8層堆疊DRAM,在使用混合鍵合工藝制造后通過(guò)了所有可靠性測(cè)試。在此次測(cè)試中,SK海力士評(píng)估了HBM在高溫下的使用壽命,并檢查了產(chǎn)品發(fā)貨后客戶在芯片焊接過(guò)程中可能出現(xiàn)的潛在問(wèn)題等,涵蓋四個(gè)類(lèi)別。


            混合鍵合被認(rèn)為是 HBM 行業(yè)的“夢(mèng)想工藝技術(shù)”。到目前為止,HBM 在 DRAM 模塊之間使用一種稱為“微凸塊”的材料進(jìn)行連接。然而,通過(guò)混合鍵合,芯片可以在沒(méi)有凸塊的情況下連接,通過(guò)消除充當(dāng)橋梁的凸塊來(lái)顯著減小芯片的厚度。


            HBM 芯片的標(biāo)準(zhǔn)厚度為 720 μm。預(yù)計(jì)將于 2026 年左右量產(chǎn)的第 6 代 HBM(HBM4)需要垂直堆疊 16 個(gè) DRAM,這對(duì)當(dāng)前的封裝技術(shù)滿足客戶滿意度來(lái)說(shuō)是一個(gè)挑戰(zhàn)。因此,Hybrid Bonding工藝在下一代HBM中的應(yīng)用被業(yè)界認(rèn)為是必然的。


            SK海力士今年已宣布計(jì)劃將混合鍵合應(yīng)用于其HBM4產(chǎn)品。雖然本次測(cè)試是在第三代產(chǎn)品上進(jìn)行的,其要求遠(yuǎn)低于 HBM4 規(guī)格,而且 DRAM 層數(shù)僅為一半(8 層),但對(duì)于外部展示 Hybrid Bonding 的潛力具有重要意義。


            SK海力士是今年半導(dǎo)體行業(yè)HBM熱潮的關(guān)鍵參與者。該公司今年率先在第五代 HBM 的生產(chǎn)中引入了大規(guī)?;亓鞒尚偷撞刻畛?(MR-MUF) 工藝,從而保持了 HBM 行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者的地位。


            HBM封裝,SK海力士有了新想法


            SK 海力士正準(zhǔn)備推出“2.5D 扇出”封裝作為其下一代存儲(chǔ)半導(dǎo)體技術(shù)。由于今年在高帶寬內(nèi)存(HBM)領(lǐng)域的成功表現(xiàn),SK海力士對(duì)下一代芯片技術(shù)領(lǐng)域充滿信心,似乎正在加緊努力,通過(guò)開(kāi)發(fā)“專(zhuān)業(yè)”內(nèi)存產(chǎn)品來(lái)確保技術(shù)領(lǐng)先地位。


            11月26日業(yè)內(nèi)人士透露,SK海力士正準(zhǔn)備將2.5D Fan-out封裝技術(shù)集成到繼HBM之后的下一代DRAM中。


            這項(xiàng)新技術(shù)將兩個(gè) DRAM 芯片水平排列,然后將它們組合起來(lái),就像它們是一個(gè)芯片一樣。一個(gè)特征是芯片變得更薄,因?yàn)樗鼈兿旅鏇](méi)有添加基板。這使得信息技術(shù) (IT) 設(shè)備中安裝的芯片厚度顯著減小。SK海力士預(yù)計(jì)最早將于明年公開(kāi)披露使用這種封裝制造的芯片的研究結(jié)果。


            SK海力士的嘗試相當(dāng)獨(dú)特,因?yàn)?.5D Fan-out封裝此前從未在內(nèi)存行業(yè)嘗試過(guò)。該技術(shù)主要應(yīng)用于先進(jìn)系統(tǒng)半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體代工廠臺(tái)積電于2016年首次將扇出晶圓級(jí)封裝(FOWLP)商業(yè)化,用于生產(chǎn)iPhone的應(yīng)用處理器,從而獲得了蘋(píng)果的信任。三星電子從今年第四季度開(kāi)始將這項(xiàng)技術(shù)引入到 Galaxy 智能手機(jī)的先進(jìn) AP 封裝中。


            SK海力士在存儲(chǔ)半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用扇出封裝的一個(gè)主要原因被解讀為封裝成本的降低。業(yè)界將2.5D扇出封裝視為一種可以通過(guò)跳過(guò)硅通孔(TSV)工藝同時(shí)增加輸入/輸出(I/O)接口數(shù)量來(lái)降低成本的技術(shù)。業(yè)界推測(cè)這種封裝技術(shù)將應(yīng)用于圖形DRAM(GDDR)和其他需要擴(kuò)展信息I/O的產(chǎn)品。


            SK海力士利用這項(xiàng)技術(shù)搶占內(nèi)存產(chǎn)品小批量多樣化的IT趨勢(shì)的戰(zhàn)略正在變得更加清晰。SK海力士正在鞏固與世界知名圖形處理單元(GPU)公司Nvidia的合作,該公司在HBM市場(chǎng)處于領(lǐng)先地位,該市場(chǎng)作為下一代DRAM而受到關(guān)注。還有一個(gè)例子是,SK海力士為蘋(píng)果新AR設(shè)備“Vision Pro”中安裝的“R1”計(jì)算單元生產(chǎn)并提供了特殊DRAM。SK海力士總裁Kwak No-jung表示:“在人工智能時(shí)代,我們將把存儲(chǔ)半導(dǎo)體創(chuàng)新為針對(duì)每個(gè)客戶的差異化專(zhuān)業(yè)產(chǎn)品。”


            誰(shuí)才是新方向?


            雖然目前業(yè)界都在集中研發(fā)HBM3的迭代產(chǎn)品,但是廠商們?yōu)榱藸?zhēng)奪市場(chǎng)的話語(yǔ)權(quán),對(duì)于未來(lái)HBM技術(shù)開(kāi)發(fā)有著各自不同的見(jiàn)解與想法。


            ?? 三星


            三星正在研究在中間件中使用光子技術(shù),光子通過(guò)鏈路的速度比電子編碼的比特更快,而且耗電量更低。光子鏈路可以飛秒速度運(yùn)行。這意味著10-1?個(gè)時(shí)間單位,即四十億分之一(十億分之一的百萬(wàn)分之一)秒。在最近舉行的開(kāi)放計(jì)算項(xiàng)目(OCP)峰會(huì)上,以首席工程師李彥為代表的韓國(guó)巨頭先進(jìn)封裝團(tuán)隊(duì)介紹了這一主題。



            除了使用光子集成電路外,另一種方法是將 HBM 堆棧更直接地連接到處理器(上圖中的三星邏輯圖)。這將涉及謹(jǐn)慎的熱管理,以防止過(guò)熱。這意味著隨著時(shí)間的推移,HBM 堆??梢陨?jí),以提供更大的容量,但這需要一個(gè)涵蓋該領(lǐng)域的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)才有可能實(shí)現(xiàn)。


            ?? SK海力士


            據(jù)韓媒報(bào)道,SK海力士還在研究 HBM 與邏輯處理器直接連接的概念。這種概念是在混合使用的半導(dǎo)體中將 GPU 芯片與 HBM 芯片一起制造。芯片制造商將其視為 HBM4 技術(shù),并正在與英偉達(dá)和其他邏輯半導(dǎo)體供應(yīng)商洽談。這個(gè)想法涉及內(nèi)存和邏輯制造商共同設(shè)計(jì)芯片,然后由臺(tái)積電(TSMC)等晶圓廠運(yùn)營(yíng)商制造。



            這有點(diǎn)類(lèi)似于內(nèi)存處理(PIM)的想法,如果最終不能成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的話,很可能會(huì)變成事實(shí)上的廠商獨(dú)占。


            ?? 美光


            Tom's Hardware 報(bào)道稱,美光與市場(chǎng)上的其他公司正在開(kāi)展 HBM4 和 HBM4e 活動(dòng)。美光目前正在生產(chǎn) HBM3e gen-2 內(nèi)存,采用 8層垂直堆疊的 24GB 芯片。美光的 12 層垂直堆疊 36GB 芯片將于 2024 年第一季度開(kāi)始出樣。它正與半導(dǎo)體代工運(yùn)營(yíng)商臺(tái)積電合作,將其 gen-2 HBM3e 用于人工智能和 HPC 設(shè)計(jì)應(yīng)用。


            美光表示,其目前的產(chǎn)品具有高能效,對(duì)于安裝了1000萬(wàn)個(gè)GPU的設(shè)備來(lái)說(shuō),每個(gè)HBM堆棧能節(jié)省約5瓦的功耗,預(yù)計(jì)五年內(nèi)將比其他HBM產(chǎn)品節(jié)省高達(dá)5.5億美元的運(yùn)營(yíng)開(kāi)支。


            下一代HBM


            2015年以來(lái),從HBM1到HBM3e,它們都保留了相同的1024位(每個(gè)堆棧)接口,即具有以相對(duì)適中的時(shí)鐘速度運(yùn)行的超寬接口,為了提高內(nèi)存?zhèn)鬏斔俾?,下一代HBM4可能需要對(duì)高帶寬內(nèi)存技術(shù)進(jìn)行更實(shí)質(zhì)性的改變,即從更寬的2048位內(nèi)存接口開(kāi)始。


            出于多種技術(shù)原因,業(yè)界打算在不增加 HBM 存儲(chǔ)器堆棧占用空間的情況下實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo),從而將下一代 HBM 存儲(chǔ)器的互連密度提高一倍。HBM4 會(huì)在多個(gè)層面上實(shí)現(xiàn)重大技術(shù)飛躍。在 DRAM 堆疊方面,2048 位內(nèi)存接口需要大幅增加內(nèi)存堆疊的硅通孔數(shù)量。同時(shí),外部芯片接口需要將凸塊間距縮小到遠(yuǎn)小于 55 微米,而 HBM3 目前的凸塊總數(shù)(約)為 3982 個(gè),因此需要大幅增加微型凸塊的總數(shù)。


            內(nèi)存廠商表示,他們還將在一個(gè)模塊中堆疊多達(dá) 16 個(gè)內(nèi)存模塊,即所謂的 16-Hi 堆疊,從而增加了該技術(shù)的復(fù)雜性。(從技術(shù)上講,HBM3 也支持 16-Hi 堆疊,但到目前為止,還沒(méi)有制造商真正使用它)這將使內(nèi)存供應(yīng)商能夠顯著提高其 HBM 堆疊的容量,但也帶來(lái)了新的復(fù)雜性,即如何在不出現(xiàn)缺陷的情況下連接更多的 DRAM 凸塊,然后保持所產(chǎn)生的 HBM 堆疊適當(dāng)且一致地短。


            在阿姆斯特丹舉行的臺(tái)積電 OIP 2023 會(huì)議上,臺(tái)積電設(shè)計(jì)基礎(chǔ)設(shè)施管理主管這樣說(shuō)道:"因?yàn)閇HBM4]不是將速度提高了一倍,而是將[接口]引腳增加了一倍。這就是為什么我們要與所有三家合作伙伴合作,確保他們的 HBM4(采用我們的先進(jìn)封裝方法)符合標(biāo)準(zhǔn),并確保 RDL 或 interposer 或任何介于兩者之間的產(chǎn)品都能支持(HBM4 的)布局和速度。因此,我們會(huì)繼續(xù)與三星、SK 海力士和美光合作"。


            目前,臺(tái)積電的 3DFabric 存儲(chǔ)器聯(lián)盟目前正致力于確保 HBM3E/HBM3 Gen2 存儲(chǔ)器與 CoWoS 封裝、12-Hi HBM3/HBM3E 封裝與高級(jí)封裝、HBM PHY 的 UCIe 以及無(wú)緩沖區(qū) HBM(由三星率先推出的一項(xiàng)技術(shù))兼容。


            美光公司今年早些時(shí)候表示,"HBMNext "內(nèi)存將于 2026 年左右面世,每堆棧容量介于 36 GB 和 64 GB 之間,每堆棧峰值帶寬為 2 TB/s 或更高。所有這些都表明,即使采用更寬的內(nèi)存總線,內(nèi)存制造商也不會(huì)降低 HBM4 的內(nèi)存接口時(shí)鐘頻率。


            總結(jié)


            與三星和 SK海力士不同,美光并不打算把 HBM 和邏輯芯片整合到一個(gè)芯片中,在下一代HBM發(fā)展上,韓系和美系內(nèi)存廠商涇渭分明,美光可能會(huì)告訴AMD、英特爾和英偉達(dá),大家可以通過(guò) HBM-GPU 這樣的組合芯片獲得更快的內(nèi)存訪問(wèn)速度,但是單獨(dú)依賴某一家的芯片就意味著更大風(fēng)險(xiǎn)。


            美國(guó)的媒體表示,隨著機(jī)器學(xué)習(xí)訓(xùn)練模型的增大和訓(xùn)練時(shí)間的延長(zhǎng),通過(guò)加快內(nèi)存訪問(wèn)速度和提高每個(gè) GPU 內(nèi)存容量來(lái)縮短運(yùn)行時(shí)間的壓力也將隨之增加,而為了獲得鎖定的 HBM-GPU 組合芯片設(shè)計(jì)(盡管具有更好的速度和容量)而放棄標(biāo)準(zhǔn)化 DRAM 的競(jìng)爭(zhēng)供應(yīng)優(yōu)勢(shì),可能不是正確的前進(jìn)方式。


            但韓媒的態(tài)度就相當(dāng)曖昧了,他們認(rèn)為HBM可能會(huì)重塑半導(dǎo)體行業(yè)秩序,認(rèn)為IP(半導(dǎo)體設(shè)計(jì)資產(chǎn))和工藝的重大變化不可避免,還引用了業(yè)內(nèi)人士說(shuō):"除了定制的'DRAM 代工廠'之外,可能還會(huì)出現(xiàn)一個(gè)更大的世界,即使是英偉達(dá)和 AMD 這樣的巨頭也將不得不在三星和 SK 海力士制造的板材上進(jìn)行設(shè)計(jì)。"


            當(dāng)然SK 海力士首席執(zhí)行官兼總裁 Kwak No-jeong的發(fā)言更值得玩味,他說(shuō):“HBM、計(jì)算快速鏈接(CXL)和內(nèi)存處理(PIM)的出現(xiàn)將為內(nèi)存半導(dǎo)體公司帶來(lái)新的機(jī)遇,這種濱化模糊了邏輯半導(dǎo)體和存儲(chǔ)器之間的界限,內(nèi)存正在從一種通用商品轉(zhuǎn)變?yōu)橐环N特殊商品,起點(diǎn)將是 HBM4。”


            由此看來(lái),下一代HBM技術(shù)路線的選擇,可能會(huì)引發(fā)業(yè)界又一輪重大的洗牌,誰(shuí)能勝出,我們不妨拭目以待。


            來(lái)源:半導(dǎo)體芯聞


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