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            EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 市場(chǎng)分析 > 2014年國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模將超3000億元

            2014年國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模將超3000億元

            作者: 時(shí)間:2014-03-27 來(lái)源:慧聰電子網(wǎng) 收藏

              據(jù)中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)預(yù)計(jì),2014年國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)銷(xiāo)售額增幅將達(dá)到20%,規(guī)模將超過(guò)3000億元。據(jù)科技部網(wǎng)站消息稱(chēng),我國(guó)極大規(guī)模制造工藝獲突破,一批65-28納米高端設(shè)備通過(guò)量產(chǎn)驗(yàn)證,而部分實(shí)現(xiàn)批量采購(gòu),成套工藝成功量產(chǎn)。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/235397.htm

              此前,科技部曹健林副部長(zhǎng)在“極大規(guī)模制造裝備及成套工藝”專(zhuān)項(xiàng)2014年工作務(wù)虛會(huì)上指出,專(zhuān)項(xiàng)自實(shí)施以來(lái),我國(guó)已經(jīng)在集成電路高端裝備、成套工藝、關(guān)鍵材料、封裝測(cè)試等領(lǐng)域取得了部分突破。除了上述制造工藝突破,光刻機(jī)整機(jī)集成及零部件技術(shù)水平也得到迅速提升,封測(cè)產(chǎn)業(yè)加速升級(jí),專(zhuān)項(xiàng)成果輻射相關(guān)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用。



            關(guān)鍵詞: 集成電路 40納米

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