SK海力士正在開發(fā)低功耗LPDDR5M:能效提高8%
2月28日消息,SK海力士正致力于開發(fā)新一代低功耗內(nèi)存LPDDR5M,其數(shù)據(jù)傳輸速率與現(xiàn)有的LPDDR5T相同,均為9.6Gbps,但在能效方面實(shí)現(xiàn)了顯著提升。
本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/202502/467419.htmLPDDR5M的工作電壓從1.01-1.12V降至0.98V,能效提高了8%。這一技術(shù)突破預(yù)計(jì)將廣泛應(yīng)用于具備設(shè)備端AI功能的智能手機(jī)中,使其在本地運(yùn)行密集型操作時(shí)消耗更少的電量,從而滿足設(shè)備制造商對高效能、低功耗的需求。業(yè)內(nèi)人士推測,SK海力士最快將于年內(nèi)推出LPDDR5M產(chǎn)品。
與此同時(shí),SK海力士在高帶寬內(nèi)存(HBM)領(lǐng)域的研發(fā)也取得了重要進(jìn)展。目前,SK海力士已進(jìn)入12層堆疊HBM4的試產(chǎn)階段,良品率從去年底的60%提升至70%。
這一進(jìn)展得益于其采用了1β(b)nm(第五代10nm級別)工藝制造DRAM芯片,該工藝在性能和穩(wěn)定性方面已得到充分驗(yàn)證,并將同樣應(yīng)用于HBM3E產(chǎn)品的生產(chǎn)中。
根據(jù)計(jì)劃,SK海力士將于2025年6月向英偉達(dá)提供HBM4樣品,以支持其Rubin架構(gòu)產(chǎn)品的需求。此外,SK海力士預(yù)計(jì)在今年下半年推出首批12層堆疊的HBM4產(chǎn)品,并于2025年第三季度進(jìn)入全面供應(yīng)階段,進(jìn)一步鞏固其在高端內(nèi)存市場的領(lǐng)先地位。
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