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            EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > 曝iPhone 17全系首發(fā)3nm A19系列芯片:無緣臺積電2nm工藝制程

            曝iPhone 17全系首發(fā)3nm A19系列芯片:無緣臺積電2nm工藝制程

            作者: 時間:2024-11-19 來源:快科技 收藏

            11月19日消息,分析師Jeff Pu在報告中提到,、 Air首發(fā)搭載芯片, Pro和iPhone 17 Pro Max首發(fā)搭載 Pro芯片,這兩顆芯片都是基于第三代制程(N3P)打造。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/202411/464709.htm

            據(jù)悉,iPhone 15 Pro系列首發(fā)的A17 Pro基于第一代制程(N3B)打造,iPhone 16系列的A18和A18 Pro基于第二代制程(N3E)打造。

            相比N3E,采用N3P工藝打造的芯片擁有更高的晶體管密度,這意味著iPhone 17系列機型的能效和性能會進一步提升。

            這也意味著iPhone 17系列無緣臺積電最新的,蘋果最快會在iPhone 18系列上引入臺積電制程。

            資料顯示,臺積電(N2)工藝最快會在2025年推出,無論是在密度還是在能效方面,它都將成為半導體行業(yè)最先進的技術。

            N2技術采用領先的納米片晶體管結構,將提供全節(jié)點性能和功率優(yōu)勢,以滿足日益增長的節(jié)能計算需求,憑借臺積電持續(xù)改進的戰(zhàn)略,N2及其衍生產品將進一步擴大臺積電在未來的技術領先優(yōu)勢。




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