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            EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > 臺積電暫不能在海外生產(chǎn)2nm芯片,以確保先進半導體工藝技術(shù)留在當?shù)?/p>

            臺積電暫不能在海外生產(chǎn)2nm芯片,以確保先進半導體工藝技術(shù)留在當?shù)?/h1>
            作者: 時間:2024-11-11 來源:超能網(wǎng) 收藏

            前一段時間,)董事長兼首席執(zhí)行官魏哲家表示,客戶對于2nm的詢問多于3nm,看起來更受客戶的歡迎,未來五年內(nèi)有望實現(xiàn)連續(xù)、健康的增長。目前看來,2nm不但能復制3nm的成功,甚至有超越的勢頭,為此加快了2nm產(chǎn)線的建設(shè),并進一步擴大了產(chǎn)能規(guī)劃。由于臺積電在海外還有新修晶圓廠的計劃,

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/202411/464490.htm

            據(jù)相關(guān)媒體報道,中國臺灣當?shù)氐闹鞴懿块T表示,雖然臺積電在美國、歐洲和日本都在建造先進工藝的晶圓廠,但是最先進的生產(chǎn)技術(shù)不能轉(zhuǎn)移到海外的生產(chǎn)設(shè)施,這受到當?shù)胤傻谋Wo,核心技術(shù)不能外移,現(xiàn)階段無法在海外生產(chǎn)。

            按照臺積電的安排,海外的生產(chǎn)設(shè)施想要生產(chǎn)還要等上好幾年,不過這種態(tài)度傳遞的另外一個更為明確的信息,即確保中國臺灣仍然是世界領(lǐng)先芯片設(shè)計公司的關(guān)鍵業(yè)務(wù)中心,所需要的領(lǐng)先工藝技術(shù)都會留在當?shù)亍?/p>

            目前臺積電在美國亞利桑那州鳳凰城的Fab 21晶圓廠首期工程正在推進當中,計劃采用5nm制程節(jié)點,包括N4/N4P/N4X和N5/N5P/N5X工藝,預計2025年開始進行大批量生產(chǎn)。臺積電還打算建造二期工程,可能會引入N3工藝,也有可能支持N2工藝,同一時間位于中國臺灣的晶圓廠將采用A16/14及更先進的工藝。



            關(guān)鍵詞: 臺積電 2nm芯片 半導體 TSMC

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