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            工信部推廣國產(chǎn)DUV光刻機,最小套刻精度≤8nm

            作者: 時間:2024-09-18 來源:SEMI 收藏

            大半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)消息,自中華人民共和國工業(yè)和信息化部官網(wǎng)獲悉,日前,工信部宣布印發(fā)《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導目錄(2024 年版)》。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/202409/462993.htm

            其中,在《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導目錄(2024年版)》電子專用裝備目錄下,集成電路設(shè)備方面包括:氟化氬光刻機,光源193納米,分辨率≤65nm,套刻≤。

            在“工信微報”官方公眾號中提到,重大技術(shù)裝備是國之重器,事關(guān)綜合國力和國家安全。中國首臺(套)重大技術(shù)裝備是指國內(nèi)實現(xiàn)重大技術(shù)突破、擁有知識產(chǎn)權(quán)、尚未取得明顯市場業(yè)績的裝備產(chǎn)品,包括整機設(shè)備、核心系統(tǒng)和關(guān)鍵零部件等。該文件的發(fā)布旨在促進首臺(套)重大技術(shù)裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應(yīng)用,加強產(chǎn)業(yè)、財政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同。



            關(guān)鍵詞: 國產(chǎn)光刻機 8nm

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