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            EEPW首頁 >> 主題列表 >> 國產(chǎn)光刻機

            工信部推廣國產(chǎn)DUV光刻機,最小套刻精度≤8nm

            • 大半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)消息,自中華人民共和國工業(yè)和信息化部官網(wǎng)獲悉,日前,工信部宣布印發(fā)《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024 年版)》。其中,在《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》電子專用裝備目錄下,集成電路設(shè)備方面包括:氟化氬光刻機,光源193納米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。在“工信微報”官方公眾號中提到,重大技術(shù)裝備是國之重器,事關(guān)綜合國力和國家安全。中國首臺(套)重大技術(shù)裝備是指國內(nèi)實現(xiàn)重大技術(shù)突破、擁有知識產(chǎn)權(quán)、尚未取得明顯市場業(yè)績的裝備產(chǎn)品,包括整機設(shè)備、核心系
            • 關(guān)鍵字: 國產(chǎn)光刻機  8nm  
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            國產(chǎn)光刻機介紹

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