據(jù)寧波前灣新區(qū)管理委員會7月15日消息，近日寧波冠石半導體有限公司迎來關鍵節(jié)點，引入首臺電子束掩模版光刻機。據(jù)悉，該設備是光掩模版40nm技術節(jié)點量產(chǎn)及28nm技術節(jié)點研發(fā)的重點設備。

光掩模版是集成電路制造過程中光刻工藝所使用的關鍵部件，類似于相機“底片”，光線經(jīng)過掩膜版后，可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前，我國高精度半導體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進口，國產(chǎn)化率極低。

據(jù)了解，冠石半導體主要從事45nm~28nm半導體光掩模版的規(guī)模化生產(chǎn)。當前，冠石半導體一期潔凈車間設計產(chǎn)能為月產(chǎn)5000片180nm~28nm集成電路掩模版。據(jù)冠石相關負責人介紹，企業(yè)正加速推進海外布局戰(zhàn)略，并在世界一流半導體光掩模版制造技術班底的加持下，預計今年底，企業(yè)將陸續(xù)實現(xiàn)為國內(nèi)外中高端集成電路掩模版提供制版服務。

此次引入電子束掩模版光刻機，冠石半導體將成為國內(nèi)技術能力先進的獨立光掩模版生產(chǎn)企業(yè)，可填補國內(nèi)高階制程光掩?？瞻祝蚱茋飧叨斯庋谀０娴膲艛嗑置?，提高我國半導體光掩模產(chǎn)業(yè)的安全和可控性。

公開媒體此前報道，南京冠石科技股份有限公司于2023年5月16日與寧波前灣新區(qū)管理委員會簽署《投資協(xié)議書》，投資建設半導體光掩膜版制造項目。該項目實施主體為寧波冠石半導體有限公司，項目總投資約20億元，先期投資16億元，擬用地約68.8畝，建設周期計劃為60個月，主要生產(chǎn)45nm~28nm成熟制程的半導體光掩膜版。