國(guó)產(chǎn)廠商引入首臺(tái)光刻機(jī)設(shè)備！

• 據(jù)寧波前灣新區(qū)管理委員會(huì)7月15日消息，近日寧波冠石半導(dǎo)體有限公司迎來關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)，引入首臺(tái)電子束掩模版光刻機(jī)。據(jù)悉，該設(shè)備是光掩模版40nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)量產(chǎn)及28nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)研發(fā)的重點(diǎn)設(shè)備。光掩模版是集成電路制造過程中光刻工藝所使用的關(guān)鍵部件，類似于相機(jī)“底片”，光線經(jīng)過掩膜版后，可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前，我國(guó)高精度半導(dǎo)體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進(jìn)口，國(guó)產(chǎn)化率極低。據(jù)了解，冠石半導(dǎo)體主要從事45nm~28nm半導(dǎo)體光掩模版的規(guī)模化生產(chǎn)。當(dāng)前，冠石半導(dǎo)體一期潔凈車間設(shè)計(jì)產(chǎn)能為月產(chǎn)5000片180nm~2
• 關(guān)鍵字： 光刻機(jī)  冠石半導(dǎo)體