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            臺積電宣布5nm基本完工開始試產(chǎn):面積縮小45%、性能提升15%

            作者:萬南 時間:2019-04-08 來源:快科技 收藏

            (TSMC)宣布,率先完成的架構(gòu)設(shè)計,基于EUV極紫外微影(光刻)技術(shù),且已經(jīng)進(jìn)入試產(chǎn)階段。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/201904/399254.htm

            根據(jù)官方數(shù)據(jù),相較于7nm(第一代DUV),基于Cortex A72核心的全新芯片能夠提供1.8倍的邏輯密度、速度增快15%。同樣制程的SRAM也十分優(yōu)異且面積縮減。

            同時宣布提供完整的設(shè)計規(guī)則手冊、SPICE模型、制程設(shè)計套件以及通過硅晶圓驗(yàn)證的基材,并且全面支持EDA(電子自動化設(shè)計工具)。

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            今年初,曾表示,5nm將于2020年底之前量產(chǎn),考慮到還有1年半的時間,完全可以期待。

            據(jù)悉,此次的第一代5nm是臺積電第二次引入EUV技術(shù),多達(dá)14層;而第二代7nm(預(yù)計今年蘋果A13、麒麟985/990要用)的EUV,只有4層規(guī)模。

            隨著格芯(GF)、聯(lián)電的退出,目前能夠做7nm以及更先進(jìn)工藝晶圓的廠商就只剩下了三星、臺積電和Intel,但I(xiàn)ntel實(shí)際上并不和臺積電直接競爭,因?yàn)槠渚A廠甚至連滿足自家需求都還捉急,只是保不齊對手AMD會重金下單。

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