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            3D芯片時代將至 光學(xué)檢測設(shè)備應(yīng)用空間擴(kuò)大

            作者: 時間:2013-12-04 來源:精實新聞 收藏

              美商陸得斯科技(RudolphTechnologies,Inc.)指出,到了3D晶片時代,矽鉆孔(TSV)、微凸塊(microbumping)等半導(dǎo)體制程技術(shù)越趨復(fù)雜,每一道程式的精密控制均開出新的檢測需求,預(yù)料設(shè)備扮演角色依舊吃重,甚至將自表面量測等現(xiàn)行主流用途,開展出更大應(yīng)用空間。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/198189.htm

              作為制程式控制制(processcontrol)的重要環(huán)節(jié),無論是在半導(dǎo)體前段抑或后段制程,都扮演著決定成品可靠度的重要關(guān)鍵。隨著3D晶片時代箭在弦上,不僅晶片尺寸縮微,制程也更加精密,自動(AOI)設(shè)備在半導(dǎo)體前、后段制程扮演的角色亦再獲討論。

              在半導(dǎo)體后段的先進(jìn)封裝領(lǐng)域,包括錫球凸塊、銅柱凸塊的高度不斷縮減,光學(xué)檢測設(shè)備精密度亦需與時俱進(jìn);隨著先進(jìn)制程與封裝技術(shù)的快速演進(jìn),半導(dǎo)體2.5D與3D晶片的技術(shù)藍(lán)圖越來越清晰,更為光學(xué)檢測設(shè)備的應(yīng)用創(chuàng)造出更多的可能。

              美商陸得斯科技指出,扇出型晶圓級封裝(Fan-outWaferLevelPackaging)同時解決晶片制造成本與封裝體積的問題,已逐漸成為縮減晶片封裝體尺寸的顯學(xué);而采用面板尺寸(panelsize)的扇出型晶圓級封裝(Fan-outWLP)技術(shù)持續(xù)演進(jìn),更衍生出晶片精準(zhǔn)對位的需求,至此,光學(xué)檢測已經(jīng)不再只是單純的缺陷檢出工具。

              而隨著TSV(矽鉆孔)技術(shù)漸趨成熟,陸得斯科技也看好,包括鉆孔、微凸塊、邊緣削減(edgetrimming)、背磨(backgrinding)等加工程式,由于牽系著晶片可靠度的成敗,精密量測將帶動新的光學(xué)檢測需求,3D晶片發(fā)展趨勢不僅不會造成光學(xué)檢測無能為力的狀況,反而將成就光學(xué)檢測從現(xiàn)行的表面量測等現(xiàn)行主流用途,開展出更大應(yīng)用空間。

              另一廂,日系設(shè)備商東麗工程(TorayEngineering)亦指出,為了因應(yīng)晶片接腳數(shù)提升、凸塊體積勢將縮小,晶片銜接點往微凸塊(microbump)技術(shù)演進(jìn)的趨勢正在飛快加速,要確保晶片運作無礙,在制程式控制制流程中的光學(xué)檢測儀器將更加不可或缺,也為檢測設(shè)備商帶來新的商機(jī)。



            關(guān)鍵詞: 3D芯片 光學(xué)檢測

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