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            EEPW首頁 > EDA/PCB > 市場分析 > 2011年晶圓廠資本支出創(chuàng)歷史新高

            2011年晶圓廠資本支出創(chuàng)歷史新高

            —— 實現(xiàn)同比增長22%
            作者: 時間:2011-03-04 來源:SEMI 收藏

              根據(jù)SEMI World Fab Forecast的報告,2011年全球廠項目支出,包括建設(shè)、設(shè)施、設(shè)備,將較2010年增長22%,其中設(shè)備支出(包括新設(shè)備和二手設(shè)備)將增長28%。該分析報告基于近期所宣布的資本支出計劃,主要來自代工廠商和廠商。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/117447.htm

              “廠項目總支出今年將接近472億美元,較2010年的386億美元大幅增漲。”SEMI Industry Research and Statistics高級分析師Christian Gregor Dieseldorff說道,“2011的支出將最終超過2007年464億美元的峰值水平。”



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