中國突破性材料!或?qū)崿F(xiàn)永久存儲芯片!
中國研究人員近日宣布,他們成功開發(fā)了一種新型材料,能夠生產(chǎn)出近乎無限壽命的記憶存儲芯片。這一突破性發(fā)現(xiàn)基于一種新型鐵電材料,為降低數(shù)據(jù)中心、深海勘探和航空航天工業(yè)的成本提供了新的可能性。
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鐵電材料因其低功耗、無損讀取和快速寫入的特性,已成為制造存儲芯片的理想選擇。在當(dāng)前中美科技競爭的背景下,這種材料對人工智能和其他高科技領(lǐng)域尤為重要。然而,傳統(tǒng)的鐵電材料,如鋯鈦酸鉛(PZT),在使用過程中容易發(fā)生所謂的“鐵電疲勞”,導(dǎo)致性能下降和最終失效。對此,中國團(tuán)隊通過改進(jìn)材料結(jié)構(gòu),成功解決了這一問題。
中國科學(xué)院研究所的副教授、該研究的第一作者解釋說:“當(dāng)電荷在存儲和讀取過程中流動時,缺陷會移動和積累,最終阻礙極化過程并導(dǎo)致設(shè)備故障?!彼麑⑦@一現(xiàn)象比作“海浪在海里聚集小石頭,逐漸形成一個阻擋海浪流動的大礁石”。為了解決這一問題,研究團(tuán)隊采用了一種層狀構(gòu)造的鐵電材料。
利用人工智能輔助的原子級模擬,研究人員發(fā)現(xiàn),當(dāng)置于電場下時,二維滑動鐵電材料在電荷轉(zhuǎn)移過程中會整體移動,從而防止帶電缺陷的移動和積累,避免疲勞。研究團(tuán)隊開發(fā)了一種納米厚的二維層狀材料,稱為3R-MoS2。這種材料的厚度約為人類頭發(fā)直徑的十萬分之一。
實(shí)驗(yàn)室測試表明,3R-MoS2在數(shù)百萬次讀寫后表現(xiàn)出零性能下降,這意味著由這種新的二維滑動鐵電材料制成的存儲設(shè)備沒有讀寫限制。相比之下,傳統(tǒng)的離子型鐵電材料如PZT,雖然可以支持成千上萬次讀寫循環(huán),但仍存在耐久性問題。
由于沒有讀寫限制,這種新材料制成的存儲芯片將極其耐用,非常適合在極端環(huán)境中使用,比如航空航天和深海探測。隨著這一技術(shù)的成熟,未來存儲服務(wù)器和大型數(shù)據(jù)中心的建設(shè)成本有望大幅降低。
這一研究不僅標(biāo)志著存儲技術(shù)的一次重大飛躍,也可能對中美科技競爭格局產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響。未來,中國在人工智能及相關(guān)高科技領(lǐng)域的自主研發(fā)能力有望進(jìn)一步提升,為全球科技創(chuàng)新注入新的動力。
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