據(jù)俄羅斯塔斯社（TACC）報(bào)道，日前俄羅斯已經(jīng)投產(chǎn)了該國首臺350nm芯片生產(chǎn)的光刻機(jī)，這就意味著，未來俄羅斯將可以實(shí)現(xiàn)在350nm芯片領(lǐng)域內(nèi)的自給自足，無需再進(jìn)口同等檔次的產(chǎn)品，擺脫了同等檔次產(chǎn)品內(nèi)對國外的依賴。更為關(guān)鍵的是，隨著這款光刻機(jī)的投產(chǎn)，俄羅斯會沿著這條技術(shù)路線繼續(xù)探索，向著更精密領(lǐng)域發(fā)展。

分析人士認(rèn)為，在當(dāng)下俄烏戰(zhàn)爭白熱化的階段，這款光刻機(jī)的投產(chǎn)意味著俄羅斯接下來完全可以實(shí)現(xiàn)“洗衣機(jī)芯片”自由，因?yàn)闅W盟之前就發(fā)現(xiàn)俄軍導(dǎo)彈武器上出現(xiàn)了大量的民用芯片，其用途包括洗衣機(jī)，洗碗機(jī)等家電用具，由此才有了這么一個(gè)段子。

俄羅斯將生產(chǎn)光刻機(jī)：2024年350nm，2026年65nm

具體情況上，俄工業(yè)和貿(mào)易部副部長Vasily Shpak 在接受媒體訪問時(shí)指出，2024 年將開始生產(chǎn)350 nm微影光刻機(jī)，2026年啟動用于生產(chǎn)130 nm制程芯片的微影光刻機(jī)。其生產(chǎn)將在莫斯科、澤列諾格勒、圣彼得堡和新西伯利亞的現(xiàn)有工廠進(jìn)行。

Vasily Shpak 指出，當(dāng)前全球只有兩家公司生產(chǎn)此類設(shè)備，包括日本NIKON 和荷蘭ASML。然而，其對于半導(dǎo)體的生產(chǎn)相當(dāng)重要。Vasily Shpak 指出，一個(gè)簡單的邏輯就是，如果沒有半導(dǎo)體主權(quán)，那就沒有技術(shù)主權(quán)，那么你在國防安全和政治主權(quán)方面就非常脆弱。而現(xiàn)在俄羅斯已經(jīng)掌握了使用外國制造65 nm微影光刻機(jī)的技術(shù)，但因?yàn)橥鈬颈唤瓜蚨砹_斯出口先進(jìn)的微影光刻機(jī)，所以俄羅斯正在匆忙開發(fā)自己的生產(chǎn)設(shè)備。

Vasily Shpak 表示，2024 年就將撥款2,114 億盧布用于國內(nèi)電子產(chǎn)品的開發(fā)。而俄羅斯決定開發(fā)350 nm到65 nm微影光刻機(jī)的原因，在于這一技術(shù)范圍內(nèi)的芯片多用于微控制器、電力電子、電信電路、汽車電子等方面上，這些應(yīng)用大約占市場的60%。所以，這項(xiàng)設(shè)備在全世界市場的需求量很大，并且將在至少10 年內(nèi)有持續(xù)的需求。

另外，當(dāng)被問到可能遭遇的阻力時(shí)，Vasily Shpak 說，我不想抱怨，所有的問題都不是問題，因?yàn)檫@關(guān)系到我們擁有哪些機(jī)會，以及所設(shè)定的目標(biāo)。

俄羅斯也要自研光刻機(jī)

據(jù)俄羅斯cnews報(bào)道，圣彼得堡創(chuàng)建了一個(gè)國內(nèi)光刻綜合體，在其中包括了一個(gè)在基板上進(jìn)行無掩模圖像采集和硅等離子化學(xué)蝕刻的設(shè)備。開發(fā)人員聲稱，第一臺用于無掩模納米光刻的機(jī)器成本約為500萬盧布（約36.74萬人民幣），而外國同類產(chǎn)品的價(jià)值高達(dá)數(shù)十億盧布。

圣彼得堡彼得大帝理工大學(xué)（SPbPU ）的專家表示，已經(jīng)開發(fā)了兩套用于生產(chǎn)微電子納米結(jié)構(gòu)的裝置，這將使“解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權(quán)問題”成為可能。引用大學(xué)代表的話寫道——該設(shè)備綜合體包括用于無掩模納米光刻和硅等離子體化學(xué)蝕刻的設(shè)備。

第一種安裝用于在基板上獲得圖像，而不使用特殊的掩模。據(jù)開發(fā)人員稱，與傳統(tǒng)光刻技術(shù)相比，無論是在金錢還是時(shí)間方面，這項(xiàng)技術(shù)都便宜得多，因?yàn)閭鹘y(tǒng)光刻技術(shù)使用專門的光罩來獲取圖像。安裝在專門軟件的控制下運(yùn)行，并且是完全自動化的。

據(jù)該機(jī)構(gòu)稱，這樣的安裝估計(jì)約為500萬盧布，也就是說，它的價(jià)格與許多現(xiàn)代中國汽車相當(dāng)，例如吉利Monjaro跨界車。RIA 還提供了與國外此類設(shè)備的比較——該機(jī)構(gòu)聲稱其成本高出數(shù)十倍，在 100 至 130 億盧布之間。

該大學(xué)代表表示，該綜合體由圣彼得堡理工大學(xué)開發(fā)，旨在創(chuàng)建“各種微電子設(shè)備運(yùn)行”所需的納米結(jié)構(gòu)。該工藝的第一階段使用基礎(chǔ)掩模光刻機(jī)，第二階段則使用用于硅等離子化學(xué)蝕刻的機(jī)器。

第二次安裝使用第一階段中創(chuàng)建的基材上的圖案。俄新社寫道，它的目的是直接用于形成納米結(jié)構(gòu)，但也可以創(chuàng)建硅膜，隨后可用于船舶表壓傳感器等。

該項(xiàng)目的作者向該機(jī)構(gòu)保證，使用這種設(shè)施創(chuàng)建的膜“在可靠性和靈敏度方面優(yōu)于液體或激光蝕刻生產(chǎn)的膜”。他們還強(qiáng)調(diào)，這完全是國產(chǎn)產(chǎn)品。

第二次安裝的成本并未被其創(chuàng)建者透露。

圣彼得堡彼得大帝理工大學(xué)“材料技術(shù)”實(shí)驗(yàn)室負(fù)責(zé)人Artem Osipov 表示，在圣彼得堡理工大學(xué)內(nèi)部創(chuàng)建的由兩個(gè)設(shè)備組成的綜合體，除其他外，可將雷達(dá)設(shè)備的使用壽命延長 20 倍以上。圣彼得堡工業(yè)大學(xué)的“電子產(chǎn)品”告訴該機(jī)構(gòu)。他還補(bǔ)充說，如果將設(shè)備用于太陽能電池板的生產(chǎn)，將有可能減輕其重量和尺寸，并教會它們在陰天工作，并與明亮的陽光下一樣高效。

開發(fā)商沒有具體說明是否有任何俄羅斯芯片制造商對其新安裝感興趣。對此，目前還沒有消息稱它們何時(shí)開始應(yīng)用于實(shí)際生產(chǎn)。與此同時(shí)，發(fā)明人繼續(xù)改進(jìn)他們創(chuàng)造的光刻復(fù)合體。特別是，他們打算為其中的兩個(gè)設(shè)備配備人工智能，但沒有具體說明它將解決什么任務(wù)。

圣彼得堡理工大學(xué)并不是唯一一所致力于創(chuàng)造先進(jìn)光刻解決方案的俄羅斯本土大學(xué)。早在2022年10月，CNews就撰文稱，俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所（ IPF RAS ）已經(jīng)開始朝這個(gè)方向開展工作。根據(jù)當(dāng)時(shí)的報(bào)道，位于下諾夫哥羅德的俄羅斯科學(xué)院應(yīng)用物理研究所（IPF RAS）正在開發(fā)俄羅斯第一臺用于生產(chǎn)超小納米微電子器件的光刻裝置，截止2022年10月，RAS科學(xué)家已經(jīng)創(chuàng)建了第一個(gè)設(shè)備演示樣品。通過該設(shè)備，可以在基板上獲得分辨率高達(dá) 7 nm 的單個(gè)圖像。

當(dāng)時(shí)的報(bào)道還指出，IPF RAS計(jì)劃在六年內(nèi)打造出國產(chǎn)7納米光刻機(jī)的工業(yè)樣機(jī)。因此，2024 年將創(chuàng)建一臺“Alpha機(jī)器”。這樣的設(shè)備將成為可以執(zhí)行完整操作周期的工作設(shè)備。

第二階段，“測試機(jī)”將于2026年出現(xiàn)。下諾夫哥羅德戰(zhàn)略網(wǎng)站指出，設(shè)備系統(tǒng)將得到改進(jìn)，更加復(fù)雜，分辨率將提高，生產(chǎn)率將提高，許多操作將實(shí)現(xiàn)機(jī)器人化。該裝置已可用于大規(guī)模生產(chǎn)。

在第三階段（2026-2028年），俄羅斯本土光刻機(jī)將獲得更強(qiáng)大的輻射源，改進(jìn)的定位和進(jìn)給系統(tǒng)，并將開始全面的工作。

俄羅斯科學(xué)院微結(jié)構(gòu)物理研究所副所長Nikolai Chkhalo表示，該演示器的光學(xué)系統(tǒng)是在俄羅斯科學(xué)院應(yīng)用物理研究所組裝的，已經(jīng)超越了當(dāng)今世界上現(xiàn)有的所有類似設(shè)備。Chkhalo指出，與微電子行業(yè)最大的光刻設(shè)備制造商 ASML 的光刻機(jī)相比，下諾夫哥羅德模型中的輻射源在運(yùn)行中更加緊湊。據(jù)他介紹，后一種情況極大地影響了設(shè)備的成本、尺寸和復(fù)雜性。

在輸出方面，同等輻射源功率下，俄羅斯設(shè)備的效率將比ASML高1.5-2倍。

眾所周知，截至 2023 年 10 月，俄羅斯還無法使用現(xiàn)代技術(shù)工藝生產(chǎn)微電路，該國最多可以使用 65 納米結(jié)構(gòu)，而該技術(shù)在近 20 年前就已經(jīng)過時(shí)了?，F(xiàn)在正在建設(shè)28納米工廠，但這個(gè)技術(shù)流程早已失去了相關(guān)性——4納米技術(shù)流程早已掌握，并在2023年向3納米過渡。

如上所述，IAP RAS 正在努力縮小俄羅斯與世界其他國家之間的巨大差距——大學(xué)專家正在開發(fā)第一款國產(chǎn)光刻機(jī)，能夠使用 7 nm 拓?fù)渖a(chǎn)芯片。然而，這需要數(shù)年時(shí)間——設(shè)備可能要到 2028 年才能開始全面運(yùn)行。

同樣是在 2023 年 3 月，CNews撰文稱，俄羅斯工貿(mào)部下令開發(fā)和開發(fā)用于微電子生產(chǎn)的光刻材料，特別是光刻膠的生產(chǎn)。該部將為這項(xiàng)工作支付11億盧布。

據(jù)報(bào)道，這項(xiàng)工作被指定為“光解”代碼。技術(shù)規(guī)范指出，其相關(guān)性是由于俄羅斯沒有開發(fā)和生產(chǎn)類似材料。

作為工貿(mào)部下令的研究工作的一部分，計(jì)劃制造用于光刻工藝的光刻膠，光化激光輻射波長為248 nm。

該工作包括開發(fā)和生產(chǎn)光刻膠，即FR248-01、FR248-02、FR248-03、FR248-04、FR248-05牌號以及兩種抗反射涂層，即PA248-01和PA248-02。

承包商不僅必須進(jìn)行理論和實(shí)驗(yàn)工作，還要測試光刻膠的實(shí)驗(yàn)批次，并準(zhǔn)備和掌握其生產(chǎn)。文件指出：“在開展研究過程中，必須將開發(fā)材料的樣品轉(zhuǎn)移給企業(yè)，并得出參數(shù)水平和適用性的結(jié)論?！?/span>

研究開發(fā)過程中使用國外生產(chǎn)的原材料、材料和設(shè)備必須經(jīng)工貿(mào)部同意。

但無論哪一樣，對俄羅斯來說，應(yīng)該都不是一件簡單的事情。

來源：道合順芯聞