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            博客專欄

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            FPC焊點剝離失效分析

            發(fā)布人:新陽檢測 時間:2023-11-20 來源:工程師 發(fā)布文章

            一、案例背景

            FPC在后續(xù)組裝過程中,連接器發(fā)生脫落。在對同批次的樣品進行推力測試后,發(fā)現(xiàn)連接器推力有偏小的現(xiàn)象。據(jù)此進行失效分析,明確FPC連接器脫落原因。

            #1、#2樣品連接器脫落連接器脫落;#3樣品連接器未脫落;#4樣品連接器推力OK。

            二、分析過程

            #1 樣品

            1、外觀分析

            wKgZomVbGXCAXulYAAEtnFM8-po921.jpg

            wKgaomVbGXGAcfxPAAJhCHKtqIo845.jpg

            測試結(jié)果:剝離面呈現(xiàn)灰黑色,表面平整,有少量錫殘留。

            2、剝離面分析

            ▼ SEM分析

            wKgZomVbGXaALwctAACxtEmVqB8210.jpg

            wKgaomVbGXeAOX-TAADSxBMtMMo579.jpg

            測試結(jié)果:剝離面平整,表面呈現(xiàn)Ni晶格狀態(tài),有少量錫殘留。

            ▼ EDS分析

            wKgZomVbGXiAbbeWAAMZd5Tzlxc823.jpg

            測試結(jié)果:P含量為14.92%,呈異常狀態(tài)。

            3、失效點斷面分析

            ▼ 斷面金相分析

            wKgaomVbGXiAO5jGAAEHjYbKwN4529.jpg暗場光

            wKgZomVbGXmALJPXAADmbRLqicc448.jpg明場光

            測試結(jié)果:FPC側(cè)焊盤表面焊錫剝離,兩端有焊錫殘留。

            ▼ 斷面SEM/EDS分析

            1)PCB側(cè)切片SEM分析:

            wKgaomVbGXmAS8zaAAEwmzykU8E375.jpg

            測試結(jié)果:剝離面處于FPC富磷層,富磷層厚度高達1.24μm,且FPC Ni層存在貫穿性Ni腐蝕。

            2)FPC側(cè)切片SEM分析:

            wKgZomVbGXuAJE0OAAHbFcSgKDs916.jpg

            測試結(jié)果:FPC殘留錫位置有明顯的貫穿性Ni腐蝕,形成的IMC層呈現(xiàn)塊狀。部分位置IMC層偏厚,富磷層厚度為0.69μm。

            3)FPC側(cè)切片EDS分析:

            wKgaomVbGXyAQu-vAAEyR_e4qgA161.jpg

            wKgZomVbGX6AOUqTAADQOkHKe1s574.jpg

            測試結(jié)果:富磷層P含量為21.24%(說明Ni過渡析出),正常Ni層P含量為9.97%。

            #2 樣品

            1、外觀分析

            wKgZomVbGX6AYPP9AAFMNMdUYTA346.jpg#2-1

            wKgaomVbGX-AcJV5AAFOa2bOtic004.jpg#2-2

            測試結(jié)果:剝離面呈現(xiàn)灰黑色,表面平整,有少量錫殘留。

            2、剝離面分析

            ▼ SEM分析

            wKgZomVbGX-AQCqSAAC6qdzFXj8496.jpg

            wKgaomVbGYCAK9UsAAFQGLkXV3w726.jpg

            測試結(jié)果:剝離面平整,表面呈現(xiàn)Ni晶格狀態(tài),僅有少量錫殘留。

            ▼ EDS分析

            wKgZomVbGYCAIRAeAALqJuauP_w982.jpg

            測試結(jié)果:P含量為15.32%,呈現(xiàn)異常狀態(tài)。

            3、失效點斷面分析

            ▼ 斷面金相分析

            wKgaomVbGYGACZsSAAD9sd7HF34576.jpg暗場光

            wKgZomVbGYGAFqJJAADpXwDtgyU146.jpg明場光

            測試結(jié)果:PCB側(cè)焊盤表面焊錫剝離,引腳兩側(cè)有焊錫殘留。

            ▼ 斷面SEM/EDS分析

            1)PCB側(cè)切片SEM分析:

            wKgaomVbGYKAPjMIAAI1R51IXn0200.jpg

            測試結(jié)果:FPC殘留錫位置形成的IMC層呈現(xiàn)塊狀,厚度嚴重超標。同時富磷層厚度高達1.20μm,F(xiàn)PC Ni層存在腐蝕現(xiàn)象。

            2)局部SEM分析:

            wKgZomVbGYKAGJ6lAADhZEU1BrU115.jpg

            wKgaomVbGYSAM7-jAAEe0R8ytbc392.jpg

            測試結(jié)果:剝離面處于FPC富磷層,富磷層厚度為1.15μm。

            3)FPC側(cè)切片EDS分析:

            wKgZomVbGYSAc9cyAAHS8fvvKOA001.jpg

            wKgaomVbGYWAf7L0AAFoQY9GA0k873.jpg

            測試結(jié)果:富磷層P含量為16.27%(說明Ni過渡析出),正常Ni層P含量為11.37%,IMC層Cu含量偏高。

            4、MARK點PAD分析

             選取FPC上的一個MRAK點,采用化學(xué)褪金后對其進行觀察分析

            1)表面SEM分析:

            wKgaomVbGYiAGg05AAGMmZaZsK8074.jpg

            wKgZomVbGYmAEnWKAAERVXVHFQI081.jpg

            測試結(jié)果:MARK點褪金后觀察其表面狀態(tài),有明顯的Ni層腐蝕異常。

            2)表面EDS分析:

            wKgaomVbGYmAGFLtAAFIoVfJZ2s606.jpg

            wKgZomVbGYqAIASXAAGB9joVPGY454.jpg

            測試結(jié)果:表面P含量最大值11.33%。

            3)切片斷面SEM分析:

            wKgaomVbGYqAJUXJAAEWmsiSVL8636.jpg

            wKgZomVbGYuAf9ZgAADOT8P_qUk244.jpg

            測試結(jié)果:Ni層未見明顯異常。

            4)斷面EDS分析:

            wKgaomVbGYyAXOWoAAFBYXw4SV4805.jpg

            wKgZomVbGYyAEfmOAAE6DXt7xCo642.jpg

            測試結(jié)果:Ni層P含量9.97%。

            #3 樣品

            1、外觀分析

            wKgaomVbGY2ALsNkAAHT34zmVL0068.jpg

            wKgZomVbGY2AflSVAAG8w95cTT8900.jpg

            測試結(jié)果:未發(fā)現(xiàn)明顯異常。

            2、X-RAY分析

            wKgaomVbGY6ACG2KAADza9VHEh4635.jpg#3-1

            wKgZomVbGY-AS0bqAAD48DSLSBo383.jpg#3-2

            wKgaomVbGY-AD86oAADl1R_QnWc969.jpg#3-3

            測試結(jié)果:#3樣品焊點氣泡較多(圖片中白色陰影為焊點)

            3、連接器焊點斷面分析

            ▼ 斷面金相分析

            wKgZomVbGZCACdnPAAEbC49tuhU949.jpg暗場光wKgaomVbGZCAIN-NAAD2_bR-4lI122.jpg明場光

            測試結(jié)果:焊接潤濕性良好。

            ▼ 斷面SEM/EDS分析

            1)SEM分析:

            wKgZomVbGZGAFn0gAAI-0zRJCrg604.jpg

            測試結(jié)果:焊接IMC層呈現(xiàn)離散、塊狀、厚度大等異常。富磷層厚度遠超正常(0.2-0.5μm)狀態(tài),在0.8μm以上。

            3)EDS分析:

            wKgaomVbGZGAZ0KuAAEN-FRGRwk983.jpg

            wKgZomVbGZKAM5CsAADT8Q4tJug025.jpg

            測試結(jié)果:富磷層P含量為12.59%,正常Ni層P含量為9.18%。

            #4 樣品

            1、外觀分析

            wKgaomVbGZKAeaaRAAHUUJTzE-k854.jpg

            wKgZomVbGZOAdTp5AAGx4aDtku4970.jpg

            測試結(jié)果:未發(fā)現(xiàn)明顯異常。

            2、X-RAY分析

            wKgaomVbGZOAcnvdAADAgDFpWHM193.jpg#4-1wKgZomVbGZSAEdhiAADleLKl5so216.jpg#4-2

            測試結(jié)果:焊點氣泡較多。

            3、連接器焊點斷面分析

            ▼ 斷面SEM/EDS分析

            1)SEM分析:

            wKgaomVbGZWAYCVrAAI38_gVbLs700.jpg

            測試結(jié)果:富磷層1.03μm,IMC層呈現(xiàn)塊狀、超厚等現(xiàn)象。整體說明焊接質(zhì)量存在明顯的缺陷。

            2)EDS分析:

            wKgZomVbGZWAcRS_AAFKV6AXW7A076.jpg

            wKgaomVbGZaAcK3GAAF1u8cn3Fs771.jpg

            測試結(jié)果:富磷層P含量為16.04%(說明Ni過渡析出),正常Ni層P含量為8.51%,IMC層Cu含量偏高。

            三、分析結(jié)果

            綜合以上分析,推斷連接器脫落的原因為FPC鎳層腐蝕及焊點強度低,具體失效解析如下:

            ① FPC鎳鍍層存在明顯的鎳腐蝕,降低了焊點的連接強度;

            ② 連接器與FPC焊接形成的富磷層在1μm左右,IMC層呈現(xiàn)塊狀、離散、超厚的異?,F(xiàn)象,遠超出合理范圍,在這種狀態(tài)下,焊點強度會明顯降低。

            四、改善建議

            ① 對鎳腐蝕現(xiàn)象進行工藝控制;

            ② 對SMT回流制程參數(shù)進行優(yōu)化,使IMC及富磷層狀態(tài)符合要求(IMC厚度0.5-3.5μm,連續(xù)、致密,富磷層厚度0.2-0.5μm)。


            騰昕檢測有話說

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