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            光罩介紹
            
      			
            
		      	
            
		      			      			      	　　光罩
　　目錄
　　1簡介
　　2結(jié)構(gòu)
　　1簡介
　　光罩（英文：Reticle, Mask）：在制作IC的過程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型復(fù)制於晶圓上，必須透過光罩做用的原理。比如沖洗照片時，利用底片將影像復(fù)制至相片上。
　　2結(jié)構(gòu)
　　實體結(jié)構(gòu)：布滿積體電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。 倍縮光罩（Reticle）：當鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為		      	[ 查看詳細 ]
		      			      	
            
    		
            
  		
            
  		  		  		  		  		        		  		
            
    		
            
      			
            
        			
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