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nxe:3800e euv 文章 進(jìn)入nxe:3800e euv技術(shù)社區(qū)
阿斯麥的新一代EUV光刻機(jī)：造價(jià)1.5億美元 公共汽車大小
- 9月2日消息，荷蘭阿斯麥的新一代極紫外（EUV）光刻機(jī)每臺(tái)有公共汽車大小，造價(jià)1.5億美元。其前所未有的精度可以讓芯片上的元件尺寸在未來幾年繼續(xù)縮小?！ ≡谖挥诿绹?guó)康涅狄格州郊區(qū)的一間大型潔凈室里，工程師們已經(jīng)開始為一臺(tái)機(jī)器制造關(guān)鍵部件，這臺(tái)機(jī)器有望讓芯片制造行業(yè)沿著摩爾定律至少再走上10年時(shí)間?！ ∵@臺(tái)極紫外光刻機(jī)是由荷蘭阿斯麥公司制造的。阿斯麥于2017年推出世界上第一臺(tái)量產(chǎn)的極紫外光刻機(jī)，在芯片制造領(lǐng)域發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，已經(jīng)被用于制造iPhone手機(jī)芯片以及人工智能處理器等最先進(jìn)的芯片。阿斯
- 關(guān)鍵字： 阿斯麥 EUV 光刻機(jī)
美光確認(rèn)EUV工藝DRAM 2024年量產(chǎn)：1γ節(jié)點(diǎn)導(dǎo)入
- 三星、SK海力士及美光確定未來會(huì)用EUV工藝，其中美光的EUV工藝內(nèi)存在2024年量產(chǎn)。芯研所8月21日消息，CPU、GPU為代表的邏輯工藝制程進(jìn)入7nm之后，EUV光刻工藝不可或缺。目前內(nèi)存停留在10nm工藝級(jí)別。三星、SK海力士及美光也確定未來會(huì)用EUV工藝，其中美光的EUV工藝內(nèi)存在2024年量產(chǎn)。美光CEO Sanjay Mehrotra日前在采訪中確認(rèn)，美光已將EUV技術(shù)納入DRAM技術(shù)藍(lán)圖，將由10nm世代中的1γ（gamma）工藝節(jié)點(diǎn)開始導(dǎo)入。美光EUV工藝DRAM將會(huì)先在臺(tái)中A3廠生產(chǎn)，預(yù)
- 關(guān)鍵字： 美光 EUV DRAM
EUV技術(shù)開啟DRAM市場(chǎng)新賽程
- SK海力士公司在7月12日表示，本月已經(jīng)開始生產(chǎn)10納米8Gb LPDDR4移動(dòng)DRAM —— 他們將在該內(nèi)存芯片生產(chǎn)中應(yīng)用極紫外（EUV）工藝，這是SK海力士首次在其DRAM生產(chǎn)中應(yīng)用EUV。根據(jù)SK海力士的說法，比起前一代規(guī)格的產(chǎn)品，第四代在一片晶圓上產(chǎn)出的DRAM數(shù)量增加了約25%，成本競(jìng)爭(zhēng)力很高。新的芯片將在今年下半年開始供應(yīng)給智能手機(jī)制造商，并且還將在2022年初開始生產(chǎn)的DDR5芯片中應(yīng)用10納米EUV。世界第三大DRAM制造商SK海力士發(fā)布聲明，正式啟用EUV光刻機(jī)閃存內(nèi)存芯片，批量生產(chǎn)采用
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為什么ASML加速來華？
- 芯片雖小，制造難度卻很大，而且芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī)的缺乏，更是成為限制我國(guó)高端芯片的一大難題。尤其是近兩年華為事件的不斷發(fā)酵，讓我國(guó)半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域的問題越加明顯，那就是在芯片制造的設(shè)備上，我國(guó)依然受制于人的問題相當(dāng)嚴(yán)重。為什么ASML加速來華？北大教授的發(fā)聲很現(xiàn)實(shí)，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)突破在即雖然華為研發(fā)出基于5nm工藝的麒麟9000芯片，令一眾對(duì)手刮目相看，但是沒有臺(tái)積電為其代工生產(chǎn)，沒有屬于中國(guó)自己的高端光刻機(jī)，就等同于一張“紙老虎”。作為中國(guó)大陸最先進(jìn)的芯片制造企業(yè)中芯國(guó)際，因?yàn)闆]有高端光刻機(jī)，至今仍然沒
- 關(guān)鍵字： EUV 光刻機(jī) ASML
三星有意在美國(guó)建5nm EUV芯片廠 巨額投資
- 據(jù)韓媒援引業(yè)內(nèi)人士消息，三星電子已決定在美國(guó)得克薩斯州奧斯丁設(shè)立EUV半導(dǎo)體工廠，以滿足日益增長(zhǎng)的小型芯片需求和美國(guó)重振半導(dǎo)體計(jì)劃。該工廠將采用5nm制程，計(jì)劃于今年Q3開工，2024年投產(chǎn)，預(yù)計(jì)耗資180億美元，同時(shí)也是三星電子首次在韓國(guó)之外設(shè)立EUV產(chǎn)線。去年，臺(tái)積電去宣布將在美國(guó)建設(shè)芯片工廠，建成之后將采用5nm工藝為相關(guān)的客戶代工芯片，目標(biāo)是2024年投產(chǎn)。最新消息稱，臺(tái)積電管理層目前正在討論，他們?cè)诿绹?guó)的下一座芯片工廠，是否采用更先進(jìn)的3nm制程工藝，為相關(guān)的客戶代工芯片。
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阿斯麥已生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī) 70%賣給了臺(tái)積電
- 本周一，外媒援引韓國(guó)產(chǎn)業(yè)通商資源部一份有關(guān)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略文件報(bào)道稱，光刻機(jī)制造商阿斯麥將投資2.12億美元，在京畿道華城建設(shè)極紫外光刻機(jī)再制造廠和培訓(xùn)中心。在報(bào)道阿斯麥將在華城建設(shè)極紫外光刻機(jī)再制造廠和培訓(xùn)中心時(shí)，外媒還提到，雖然三星電子、SK海力士已引進(jìn)了阿斯麥生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī)，但他們獲得的數(shù)量同臺(tái)積電相比，有不小的差距?！ ⊥饷皆趫?bào)道中提到，阿斯麥目前已生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī)，70%是賣給了臺(tái)積電，留給其他廠商的就只有30%?！ “⑺果?zhǔn)悄壳叭蛭ㄒ荒苤圃鞓O紫外光刻機(jī)的廠商，他們已推出了TWIN
- 關(guān)鍵字： 阿斯麥 極紫光刻機(jī) EUV 臺(tái)積電
不用EUV光刻機(jī)就搞定類7nm工藝？中芯國(guó)際回應(yīng)
- 做為國(guó)內(nèi)最大也是最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造公司，中芯國(guó)際在先進(jìn)工藝上的進(jìn)展引人關(guān)注，其中7nm及以下節(jié)點(diǎn)非常重要，這還牽涉到EUV光刻機(jī)?！ ∪涨坝泄擅裨诨?dòng)平臺(tái)上詢問，稱有報(bào)道指出中芯國(guó)際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝，要求中芯國(guó)際澄清?！ ?duì)此，中芯國(guó)際表示，公司不針對(duì)傳言進(jìn)行評(píng)論?！ 闹行緡?guó)際官網(wǎng)的介紹來看，該公司提到的最先進(jìn)工藝還是14nm，接下來的是N+1、N+2工藝，但沒有指明具體的工藝節(jié)點(diǎn)?！ ≈行緡?guó)際聯(lián)合CEO趙海軍曾表示，經(jīng)過三年的積累，F(xiàn)inFET工藝已經(jīng)取得了不錯(cuò)的成績(jī)，N+1已經(jīng)
- 關(guān)鍵字： EUV 光刻機(jī) 中芯國(guó)際
里程碑！IBM宣布造出全球首顆2nm EUV芯片
- 藍(lán)色巨人出手就是王炸?！ ?月6日消息，IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導(dǎo)體芯片?！ 『诵闹笜?biāo)方面，IBM稱該2nm芯片的晶體管密度（MTr/mm2，每平方毫米多少百萬顆晶體管）為333.33，幾乎是臺(tái)積電5nm的兩倍，也比外界預(yù)估臺(tái)積電3nm工藝的292.21 MTr/mm2要高?！ ?nm晶圓近照 換言之，在150平方毫米也就是指甲蓋大小面積內(nèi)，就能容納500億顆晶體管。 同時(shí)，IBM表示，在同樣的電力消耗下，其性能比當(dāng)前7nm高出45%，輸出同樣性能則減少75%的功耗。 實(shí)際上，I
- 關(guān)鍵字： IBM 2nm EUV
ASML澄清與中芯國(guó)際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同
- 近日，中芯國(guó)際與ASML達(dá)成12億美元交易購(gòu)買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對(duì)雙方此次合作，有媒體報(bào)道稱“除了EUV光刻機(jī)，中芯國(guó)際幾乎可以買到其他所有型號(hào)的光刻機(jī)?！钡沁@一說法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)?！ 】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈，這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，而DUV是“深紫外線”的意思，通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級(jí)，實(shí)際上也是如此。 ASML澄清與中
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中國(guó)芯片業(yè)為什么搞不過一家荷蘭公司
- 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財(cái)報(bào)，這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺(tái)EUV光刻機(jī)，中國(guó)大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺(tái)?！ ∮腥苏f阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€(gè)能讓臺(tái)積電折腰的公司，這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī)，是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟，沒有刀，再好的師傅也雕不出來花?！ ∪绻腥魏螐S商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻，廠商就要付給他們以小時(shí)計(jì)的美金?！ ≡?jīng)，某上市公司的光刻機(jī)出問題后，排了3年隊(duì)才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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全球最大光刻機(jī)廠CEO：拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢(shì)
- 拜登上任在即，他會(huì)緩解緊張的中美科技局勢(shì)嗎？近期，全球最大光刻機(jī)制造商ASML的CEO表示，即使總統(tǒng)換屆，兩國(guó)在包括光刻機(jī)在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域，仍將出現(xiàn)進(jìn)一步的對(duì)抗。也有人發(fā)表看法，發(fā)展芯片，開源指令集架構(gòu)RISC-V可能會(huì)讓中國(guó)芯片自主「彎道超車」？ 離美國(guó)新任總統(tǒng)拜登的上任越來越近了?！ ≡谶^去川普任職期內(nèi)，中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機(jī)制造商ASML也是其中之一。 由于美國(guó)政府的壓力，其最新價(jià)值約2億美元的光刻機(jī)已停止向中國(guó)銷售?！ ∮捎诖ㄆ盏呐e動(dòng)常常出其不意而且瘋狂
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在EUV光刻技術(shù)上，日本公司壟斷了光刻膠的供應(yīng)
- 雖然將會(huì)有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個(gè)市場(chǎng)是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導(dǎo)體光刻技術(shù)，但是毫無疑問，這就是光刻技術(shù)的未來。與任何未來一樣，它為一些光刻材料市場(chǎng)開拓者提供了在新市場(chǎng)中建立自己的機(jī)會(huì)。尤其是目前由兩家日本公司生產(chǎn)使用EUV光刻機(jī)所使用的技術(shù)處理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學(xué)將在2021年開始為下一代芯片提供光刻材料，這可能有助于減小智能手機(jī)和其他設(shè)備的芯片尺寸，并使它們更加節(jié)能。這
- 關(guān)鍵字： EUV 光刻膠
斥資440億元采購(gòu)EUV光刻機(jī)？臺(tái)積電：不評(píng)論傳聞
- 9月30日訊，此前有媒體報(bào)道，由于先進(jìn)制程推進(jìn)順利和訂單量擴(kuò)大，臺(tái)積電將加大EUV光刻機(jī)的采購(gòu)力度，預(yù)計(jì)到2021年底采購(gòu)量為55臺(tái)左右。臺(tái)積電方面回復(fù)稱：公司不評(píng)論市場(chǎng)傳聞。據(jù)了解，一臺(tái)EUV光刻機(jī)售價(jià)近8億元，55臺(tái)EUV光刻機(jī)價(jià)值約440億元。相關(guān)閱讀：臺(tái)積電明年底前將累計(jì)采購(gòu)55臺(tái)EUV光刻機(jī)：花費(fèi)超440億元出處：快科技 作者：萬南芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下，這其中最關(guān)鍵的核心設(shè)備就要數(shù)EUV光刻機(jī)了，目前全世界只有荷蘭ASML（阿斯麥）可以制造。來自Digitimes的報(bào)道稱，臺(tái)積電打算在
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)？ASML華裔工程師：天方夜譚
- 9月16日，中國(guó)科學(xué)院院長(zhǎng)白春禮在國(guó)新辦發(fā)布會(huì)上介紹稱，“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段要把美國(guó)“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，集中全院力量聚焦國(guó)家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱，從2021年到2030年未來的十年是“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段。對(duì)此，首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱，目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機(jī)構(gòu)，目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類定位、分類管理、分類評(píng)價(jià)、分類資源配置。“這個(gè)工作還沒有完，只是進(jìn)行了一部分，所以第二階段我們爭(zhēng)取在2025年要把四類機(jī)構(gòu)全部做完，
- 關(guān)鍵字： 華為 中科院 EUV 光刻機(jī) ASML
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