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            WO3摻雜NiO的氣敏性能研究

            •   0 引 言   NiO作為一種P型半導(dǎo)體材料,因其具有穩(wěn)定而較寬的帶隙在電池材料、催化劑、氣敏材料等方面有著廣泛的應(yīng)用。以NiO為基體材料制作的氣敏元件雖然具有響應(yīng)一恢復(fù)快,穩(wěn)定性比較好等優(yōu)點(diǎn),但與N型半導(dǎo)體SnO,ZnO等氣敏材料相比,NiO的氣體靈敏度較低,這主要是因?yàn)镹iO為空穴導(dǎo)電,吸附可燃?xì)怏w后空穴減少,電阻增大,而NiO材料本身的電阻又比較高。因此,不斷改善提高NiO的氣敏性能使其具有實(shí)用性是當(dāng)前研究的重點(diǎn)所在。本文利用水熱法制備NiO對其進(jìn)行不同質(zhì)量分?jǐn)?shù)的WO3摻雜,研究了摻雜后NiO
            • 關(guān)鍵字: NiO  氣敏  WO3  半導(dǎo)體  材料  XRD  
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