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toppan 文章進入toppan技術社區(qū)

Toppan宣布28nm光刻掩膜準備就緒通過IBM認證

　　Toppan Printing公司在同IBM的合作下，開發(fā)出新的光刻掩膜制造技術，可用于制造32nm和28nm掩膜。　　該公司稱，這些掩膜在日本Asaka工廠制成，通過了IBM的認證。　　Toppan從45nm節(jié)點就開始和IBM合作，去年雙方簽署了32nm掩膜技術的最后階段的合作協(xié)議，以及22nm掩膜的合作開發(fā)協(xié)議。
關鍵字： Toppan 納米光刻掩膜

共1條 1/1 1

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