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            應用材料公司拓展RFPVD技術實現(xiàn)22納米晶體管觸點制造

            •   近日,應用材料公司拓展了其Applied Endura Avenir RF PVD系統(tǒng)的應用組合,實現(xiàn)了鎳鉑合金(NiPt)的沉積,將晶體管觸點的制造擴展至22納米及更小的技術節(jié)點。晶體管觸點上的高質量鎳鉑薄膜對于器件性能非常關鍵,但是在高深寬比(HAR)的輪廓底部沉積材料是一個極大的挑戰(zhàn)。為確保觸點阻抗的一致性和最佳產(chǎn)品良率,Avenir系統(tǒng)為HAR深達5:1的觸孔提供了超過50%的底部覆蓋,其單片晶圓的成本比應用材料公司之前市場領先的系統(tǒng)最多可降低30%。 
            • 關鍵字: 應用材料  RFPVD  
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            rfpvd介紹

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