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            德國建立32nm光刻掩膜研發(fā)項目
            
                                                            
              
                    	
            • 　　先進掩膜技術中心（AMTC）、半導體設備供貨商Vistec和德國國家物理技術研究院（PTB）將共同完成研發(fā)下一代芯片生產(chǎn)技術和量測流程的開發(fā)項目。
　　德國教育部對此代號為“CDuR32 （32nm掩膜光刻技術的核心演習和使用） ”的研發(fā)項目提供了部分資助。該項目的總預算資金為16.7百萬歐元（約24.3百萬），其中德國政府資助了7.9百萬歐元。
　　該項目預計為期2.5年，旨在研發(fā)掩膜技術以用于今后其Dresden晶圓廠32nm存儲芯片和22nm微處理器的生產(chǎn)。AMTC由
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            • 關鍵字：
                        掩膜  AMTC  半導體  PTB                          
              • 
                   	
            
                    
            
                
            
                                                

                
            
	                
            
		                	
            
	
            
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