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條狀過(guò)孔成大勢(shì)所趨
- 對(duì)于28納米及以下節(jié)點(diǎn)，各種新的設(shè)計(jì)要求使工程師不得不調(diào)整傳統(tǒng)的數(shù)字電路板圖設(shè)計(jì)和驗(yàn)證流程。尤其值得一提的是，過(guò)孔的使用受到了很大的影響。新的過(guò)孔類(lèi)型已推出，雙重成像（double patterning）、FinFETS 和其它新的設(shè)計(jì)技巧的加入不僅使過(guò)孔的使用顯著增多
- 關(guān)鍵字： 條狀過(guò)孔 雙重成像 FinFETS 矩形過(guò)孔 布局布線(xiàn)
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