全球最大半導體微顯影設備業(yè)者ASML表示,目前客戶訂單增加相當多,但主是來自半導體業(yè)者制程微縮而非產能擴充的需求,半導體業(yè)者仍持續(xù)微縮半導體制程,摩爾定律預料將持續(xù)延續(xù)。以目前ASML最先進的浸潤式微顯影機種來看,新一代的機種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨,未來將快速增加出貨,同時深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶訂單,對ASML來說2010年將是極重要的一年。
ASML NXT技術平臺資深經理Frank van de Mast指出,XT1900Hi的下一代機種NXT 1950i