32nm 文章 進入32nm技術社區(qū)
特許半導體四季度上馬32nm工藝 明年轉入28nm
- 新加坡特許半導體計劃在今年第四季度推出32nm制造工藝，明年上半年再進一步轉入28nm。 特許半導體很可能會在明天的技術論壇上公布32nm SOI工藝生產線的試運行計劃，并披露28nm Bulk CMOS工藝路線圖，另外45/40nm LP低功耗工藝也已就緒。 特許的28nm工藝并非獨立研發(fā)，而是在其所處的IBM技術聯(lián)盟中獲取的，將會使用高K金屬柵極(HKMG)技術以及Gate-first技術(Intel是Gate-last的堅定支持者)。 特許半導體2009年技術論壇將在臺灣新竹市
- 關鍵字： 特許半導體 32nm 28nm Gate-first
ST慶祝Nano2012框架協(xié)議正式啟動
- 意法半導體和法國電子信息技術實驗室CEA-LETI宣布，法國經濟、工業(yè)和就業(yè)部長，以及國家和地區(qū)政府的代表、CEA-LETI和意法半導體的管理層，齊聚法國格勒諾布爾(Grenoble)市的Crolles分公司，共同慶祝Nano2012研發(fā)項目正式啟動。IBM的代表也參加了啟動儀式。IBM公司是意法半導體和CEA-LETI的重要合作伙伴，與雙方簽署了重要的技術開發(fā)協(xié)議。 Nano2012是由意法半導體領導的國家/私營戰(zhàn)略研發(fā)項目，聚集研究院和工業(yè)合作伙伴，得到法國國家、地區(qū)和本地政府的財政支持，旨
- 關鍵字： ST CMOS 32nm 22nm Nano2012
32nm節(jié)點的PVD設備暗戰(zhàn)？
- 半導體產業(yè)的低谷擋不住技術前進的腳步。近期兩大設備廠商Applied Materials和Novellus相繼推出了新型PVD機臺，目標均鎖定為32nm及更小的技術節(jié)點。 5月28日，設備巨頭Novellus宣布開發(fā)出HCM(中空陰極磁電管)PVD技術，稱為IONX XL。該機臺可滿足3Xnm技術節(jié)點的薄阻擋層淀積，主要的服務對象為存儲器制造廠商。由于在3Xnm節(jié)點，存儲器的CD相比邏輯器件要小30%，存儲器的銅互連中將更多的采用高深寬比的結構，這為阻擋層和晶籽層的臺階覆蓋性帶來了挑戰(zhàn)。
- 關鍵字： Novellus 半導體 PVD 32nm
Globalfoundries稱今年第四季度將開始32nm制程生產
- ?Globalfoundries公司計劃于09年第四季度開始正式32nm制程芯片的生產。該公司宣稱將從第四季度開始接受生產訂單，如果一切正常，那么2010年就可以按訂單要求生產出32nm制程芯片。 ? ? 顯然該公司的第一批客戶將是AMD的處理器和顯卡芯片，不過現在還很難說Globalfoundries能否比臺積電更早拿出基于32nm制程的方案，如果答案是“能”，那么屆時的業(yè)界恐怕又要激起一輪大波。 目前，該公司旗下只有一間Fab1工廠
- 關鍵字： Globalfoundries 芯片 32nm
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