20nm制程 文章 進(jìn)入20nm制程技術(shù)社區(qū)
應(yīng)用材料為20nm制程開發(fā)自主式缺陷檢測SEM
- 應(yīng)用材料公司推出 Applied SEMVision G5 系統(tǒng)，進(jìn)一步推升在缺陷檢測掃描電子顯微鏡 (Scanning Electronic Microscope，簡稱SEM) 技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)地位，這是首款可供芯片制造商用于無人生產(chǎn)環(huán)境的缺陷檢測工具，能拍攝并分析20納米影響良率的缺陷。 據(jù)應(yīng)材表示，SEMVision G5獨(dú)特的功能可識別并拍攝1納米畫素的缺陷，協(xié)助邏輯與內(nèi)存客戶改善制程，比過去更快且更正確地找出造成缺陷的根本原因。 SEMVision G5系統(tǒng)配備最先進(jìn)的1納米畫素、無與
- 關(guān)鍵字： 應(yīng)用材料 20nm制程
臺積電20nm制程將支持雙重成像技術(shù)
- 據(jù)臺積電公司設(shè)計(jì)技術(shù)高級主管Ed Wan表示，臺積電20nm制程自動化設(shè)計(jì)系統(tǒng)將可支持雙重成像技術(shù)(double patterning)。相關(guān)的電路自動化布置軟件廠商將在臺積電20nm制程芯片設(shè)計(jì)用軟件中加入對雙重成像技術(shù)的支持，這樣芯片設(shè)計(jì)者就不需要像過去 那樣專門針對雙重成像技術(shù)進(jìn)行計(jì)算。而一旦芯片設(shè)計(jì)方確定芯片電路的布局準(zhǔn)則，那么臺積電的軟件便可將該設(shè)計(jì)拆分到兩個雙重成像用掩膜板上?！ ?/li>
- 關(guān)鍵字： 臺積電 20nm制程
| 共2條 1/1 1 |
20nm制程介紹
您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條20nm制程!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對20nm制程的理解，并與今后在此搜索20nm制程的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對20nm制程的理解，并與今后在此搜索20nm制程的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473