泛林集團自維護設(shè)備創(chuàng)生產(chǎn)率新紀錄

• 上海 —— 近日，全球領(lǐng)先的半導體制造設(shè)備及服務供應商泛林集團宣布其自維護設(shè)備創(chuàng)下半導體行業(yè)工藝流程生產(chǎn)率的新標桿。通過與領(lǐng)先半導體制造商合作，泛林集團成功實現(xiàn)了刻蝕工藝平臺全年無間斷運行。在當今半導體工藝環(huán)境中，平均清洗間隔時間是限制刻蝕系統(tǒng)生產(chǎn)率提高的主要因素。為了保持穩(wěn)定的性能，通常需要每月、甚至每周清洗刻蝕工藝腔室，并更換被等離子體工藝腐蝕的部件。2019 年 4 月，泛林集團與客戶攜手達成了一項宏偉目標，實現(xiàn)設(shè)備在無需維護清洗的情況下連續(xù)運行 365 天，創(chuàng)下里程碑式紀錄。泛林集團自維護設(shè)備創(chuàng)生
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