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            EEPW首頁 >> 主題列表 >> 薄膜生長

            “薄膜生長”國產(chǎn)實驗裝置在武漢驗收

            • 據(jù)武漢市科技局官微消息,日前,半導體芯片生產(chǎn)中的重要工藝設(shè)備——“薄膜生長”實驗裝置在武漢通過驗收,這項原創(chuàng)性突破可提升半導體芯片質(zhì)量。據(jù)悉,半導體薄膜生長是芯片生產(chǎn)的核心上游工藝。這套自主研制的“薄膜生長”國產(chǎn)實驗裝置,由武漢大學劉勝教授牽頭,聯(lián)合華中科技大學、清華大學天津高端裝備研究院、華南理工大學、中國科學院半導體研究所、中國科學院微電子研究所等多家單位,歷時5年完成。這套“薄膜生長”國產(chǎn)實驗裝置由“進樣腔”、“高真空環(huán)形機械手傳樣腔”等多個腔體和“超快飛秒雙模成像系統(tǒng)”、“超快電子成像系統(tǒng)”等多個
            • 關(guān)鍵字: 半導體  薄膜生長  工藝  
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            薄膜生長介紹

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