納米壓印光刻 文章 進(jìn)入納米壓印光刻技術(shù)社區(qū)
納米壓印光刻是否是半導(dǎo)體制造的未來一步？
- 在半導(dǎo)體制造的高科技世界中，在納米尺度上創(chuàng)建復(fù)雜圖案的能力至關(guān)重要。隨著對(duì)更小、更快、更高效的電子設(shè)備的需求不斷增長，對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的需求也在增加。談到納米壓印光刻（NIL），這種方法承諾將詳細(xì)設(shè)計(jì)的圖案印在基板上?？萍季揞^佳能最近推出了其NIL工具，但專家質(zhì)疑它是否能真正挑戰(zhàn)極端紫外線（EUV）光刻術(shù)的主導(dǎo)地位。納米壓印光刻是如何工作NIL的核心是一個(gè)簡(jiǎn)單的概念，盡管其執(zhí)行在技術(shù)上可能具有挑戰(zhàn)性。該過程涉及使用模具或模板在基板上物理“沖壓”出圖案。簡(jiǎn)要過程如下：1. 創(chuàng)建一個(gè)具有納米級(jí)模式的模板。2.
- 關(guān)鍵字： 納米壓印光刻 半導(dǎo)體工藝制程
日本佳能推出納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備
- 佳能于 10 月 13 日宣布，已將 FPA-1200NZ2C 商業(yè)化，這是一種納米壓印半導(dǎo)體制造系統(tǒng)，利用納米壓印光刻（NIL）技術(shù)實(shí)現(xiàn)尖端半導(dǎo)體電路的形成，并于當(dāng)天開始接受訂單。納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備「FPA-1200NZ2C」傳統(tǒng)的投影曝光設(shè)備（例如 ArF 和 EUV）通過用穿過圖案掩模的光照射晶圓上的抗蝕劑來形成電路圖案，但使用 NIL 時(shí)，電路被印刷在掩模（模板）本身上。通過形成不規(guī)則形狀并將它們像郵票一樣壓在抗蝕劑上。通過從母版創(chuàng)建副本，可以多次使用掩碼，這具有降低設(shè)備成本的優(yōu)點(diǎn)。該公司的
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納米壓印光刻介紹
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