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	清洗產(chǎn)品
      

      
	
      
    	
      
    	  	
      
              	
      
                	
      清洗產(chǎn)品 文章
                  進入清洗產(chǎn)品技術社區(qū)  
                  
      
                
      
                                
      
                  

                                
      
                    
      SEZ部署了FEOL清洗產(chǎn)品特性全新的ESANTI 單晶圓濕式平臺
      
                                                            
        
                    	
      •    Esanti 標志著SEZ面向FEOL戰(zhàn)略發(fā)展藍圖又邁出了至關重要的一步 SEZ（瑟思）集團 (瑞士股票交易市場SWX代碼：SEZN)于宣布了公司面向前段工藝過程（FEOL）中清洗和光阻剝離工藝的Esanti平臺。極其靈活的Esanti平臺充分利用了SEZ集團久經(jīng)考驗的專業(yè)技術單晶圓濕式處理技術，旨在滿足45納米及其更低尺寸的芯片制造中前段工藝過程的清洗衍變需求。它構筑于公司的核心旋轉處理器技術之上，增加了新的功
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      • 關鍵字：
                        ESANTI  FEOL  SEZ  單晶圓濕式平臺  工業(yè)控制  清洗產(chǎn)品  其他IC  制程  工業(yè)控制                          
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	共1條
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      清洗產(chǎn)品介紹
      
      			
      
		      	
      
		      			      			      	您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條清洗產(chǎn)品!
       
		      	歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對清洗產(chǎn)品的理解，并與今后在此搜索清洗產(chǎn)品的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條
		      			      	
      
    		
      
  		
      
  		  		  		  		  		        		  		
      
    		
      
      			
      
        			
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