EEPW首頁(yè) >>
主題列表 >>
半導(dǎo)體
半導(dǎo)體 文章 進(jìn)入半導(dǎo)體 技術(shù)社區(qū)
2010年Q3全球硅片出貨量上升
- 按SEMI SMG小組有關(guān)硅片工業(yè)季度分析報(bào)告,2010 Q3全球硅片出貨面積與Q2相比增長(zhǎng)5.2%。 據(jù)SMG分析,全球硅片出貨面積在Q3達(dá)到2489 百萬(wàn)平方英寸,與上個(gè)季度的2365百萬(wàn)平方英寸相比增長(zhǎng)5.2%,與去年同期相比增長(zhǎng)26.2%。 SEMI SMG主席及SUMCO的總經(jīng)理Takashi Yamada表示全球硅片出貨面積繼續(xù)增長(zhǎng),隨著半導(dǎo)體市場(chǎng)的恢復(fù),今年的硅片出貨量將達(dá)到新的記錄。
- 關(guān)鍵字: 硅片 半導(dǎo)體
SIA:今年全球半導(dǎo)體銷(xiāo)售額將破3000億美元
- 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“SIA”)周一發(fā)布報(bào)告稱(chēng),2010年全球半導(dǎo)體銷(xiāo)售額將達(dá)到3005億美元,同比增長(zhǎng)32.8%。 如果實(shí)現(xiàn)該目標(biāo),這將是全球半導(dǎo)體年銷(xiāo)售額首次突破3000億美元大關(guān)。但在未來(lái)幾年內(nèi),半導(dǎo)體市場(chǎng)則不容樂(lè)觀。SIA預(yù)計(jì),2011年銷(xiāo)售額將達(dá)到3187億美元,漲幅只有6%。2012年預(yù)計(jì)將達(dá)到3297億美元,漲幅為3.4%。 SIA總裁布萊恩-圖希(Brian Toohey)稱(chēng):“今年全球半導(dǎo)體銷(xiāo)售額之所以將創(chuàng)紀(jì)錄,是因
- 關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體 芯片
“十二五”半導(dǎo)體投資超2700億元
- 中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)表示,“十二五”期間,我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的投資有望超過(guò)2700億元,較“十一五”增加1倍。 全球前3大MOCVD制造商Aixtron、Veeco及大陽(yáng)日酸,09年市占率分別為68.3%、25.6%、4.5%。大陽(yáng)日酸12年MOCVD銷(xiāo)售目標(biāo)100億日元,為09年的3倍。 意法半導(dǎo)體表示,不計(jì)存儲(chǔ)芯片在內(nèi)的全球芯片市場(chǎng)預(yù)計(jì)10年增幅將在20%至30%之間,11年將增長(zhǎng)5%至10%,并認(rèn)為該公司業(yè)績(jī)?nèi)詫⒑糜谕瑯I(yè)。 資策會(huì)產(chǎn)業(yè)情
- 關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體 芯片
全球半導(dǎo)體聯(lián)盟打造3D集成電路計(jì)劃
- 全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)代言者全球半導(dǎo)體聯(lián)盟(GSA)日前宣布,將在全球范圍提升3D IC技術(shù)以及相關(guān)教育計(jì)劃的認(rèn)知度和可見(jiàn)性。 GSA高薪聘請(qǐng)半導(dǎo)體行業(yè)的資深專(zhuān)家Herb Reiter,他是eda 2 asic Consulting公司總裁、長(zhǎng)期以來(lái)的GSA領(lǐng)袖和領(lǐng)導(dǎo)3D IC計(jì)劃的擁護(hù)者。該計(jì)劃包括成立一支3D IC工作團(tuán)隊(duì),并由Reiter領(lǐng)導(dǎo)。這支團(tuán)隊(duì)將云集幾大主要半導(dǎo)體公司及供應(yīng)鏈的重要力量,包括EDA、封裝和代工。
- 關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體 3D集成電路
EUV:終極的曝光技術(shù)
- 面向超越22nm工藝的最尖端半導(dǎo)體而正在研發(fā)的新技術(shù)——采用13.5nm這一超短波長(zhǎng)的新一代曝光技術(shù)EUV(extreme ultraviolet)即將展露鋒芒。由于EUV曝光技術(shù)實(shí)現(xiàn)了半導(dǎo)體的極小線(xiàn)寬,因而被稱(chēng)為“終極的曝光技術(shù)”。另一方面,與現(xiàn)有的曝光技術(shù)相比,用于批量生產(chǎn)的技術(shù)壁壘非常高,所以至今為止仍無(wú)法擺脫“夢(mèng)幻”技術(shù)的色彩。與以往的曝光技術(shù)相比,其技術(shù)壁壘之高主要體現(xiàn)在光源波長(zhǎng)非常小上。
- 關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體 EUV曝光技術(shù)
國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備破冰
- 半導(dǎo)體工藝裝備是一個(gè)非常復(fù)雜的系統(tǒng)。多年來(lái),中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)所需設(shè)備幾乎全部依賴(lài)進(jìn)口。近20年來(lái),中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的強(qiáng)勁發(fā)展不僅沒(méi)有拉動(dòng)中國(guó)半導(dǎo)體裝備的發(fā)展,反而由于引進(jìn)的沖擊使中國(guó)的半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)瀕臨全軍覆沒(méi)。 隨著中國(guó)近年來(lái)集成電路、光伏、LED、FPD產(chǎn)業(yè)與國(guó)際先進(jìn)水平差距的縮小,相關(guān)的配套材料、零備件、工藝設(shè)備、維護(hù)服務(wù)等支撐行業(yè)迎來(lái)了千載難逢的發(fā)展機(jī)遇。國(guó)家重大科技專(zhuān)項(xiàng)的實(shí)施,大大增強(qiáng)了中國(guó)半導(dǎo)體裝備產(chǎn)業(yè)的整體競(jìng)爭(zhēng)能力。
- 關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體 等離子刻蝕機(jī)
半導(dǎo)體 介紹
semiconductor
電阻率介于金屬和絕緣體之間并有負(fù)的電阻溫度系數(shù)的物質(zhì)。半導(dǎo)體室溫時(shí)電阻率約在10-5~107歐·米之間,溫度升高時(shí)電阻率指數(shù)則減小。半導(dǎo)體材料很多,按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類(lèi)。鍺和硅是最常用的元素半導(dǎo)體;化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ 族化合物(砷化鎵、磷化鎵等)、Ⅱ-Ⅵ族化合物( 硫化鎘、硫化鋅等)、氧化物(錳、鉻、鐵、銅的氧化物), [ 查看詳細(xì) ]
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會(huì)員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
![備案](https://webstorage.eepw.com.cn/images/2013/index/biaoshi.gif)