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	光刻掩膜
            

            
	
            
    	
            
    	  	
            
              	
                                
            
                  

                                
            
                    
            Toppan宣布28nm光刻掩膜準(zhǔn)備就緒 通過IBM認(rèn)證
            
                                                            
              
                    	
            • 　　Toppan Printing公司在同IBM的合作下，開發(fā)出新的光刻掩膜制造技術(shù)，可用于制造32nm和28nm掩膜。
　　該公司稱，這些掩膜在日本Asaka工廠制成，通過了IBM的認(rèn)證。
　　Toppan從45nm節(jié)點(diǎn)就開始和IBM合作，去年雙方簽署了32nm掩膜技術(shù)的最后階段的合作協(xié)議，以及22nm掩膜的合作開發(fā)協(xié)議。
              • 
                    	                        
            • 關(guān)鍵字：
                        Toppan  納米  光刻掩膜                          
              • 
                   	
            
                    
            
                
            
                                                

                
            
	                
            
		                	
            
	
            
	共1條
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            光刻掩膜介紹
            
      			
            
		      	
            
		      			      			      	您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條光刻掩膜!
             
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