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            EEPW首頁(yè) > 網(wǎng)絡(luò)與存儲(chǔ) > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 鎂光34nm企業(yè)級(jí)MLC/SLC NAND閃存明年初量產(chǎn)

            鎂光34nm企業(yè)級(jí)MLC/SLC NAND閃存明年初量產(chǎn)

            作者: 時(shí)間:2009-10-21 來(lái)源:tcmagazine 收藏

              制程企業(yè)級(jí)MLC/SLC 已經(jīng)進(jìn)入試樣階段,MLC部分的存儲(chǔ)密度可達(dá)32Gb,寫(xiě)入壽命達(dá)3萬(wàn)次,是普通MLC產(chǎn)品的6倍;SLC部分存儲(chǔ)密度為16Gb,寫(xiě)入壽命同樣為3萬(wàn)次,是普通SLC產(chǎn)品的3倍.

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/99114.htm

              這次開(kāi)發(fā)成功的 MLC/SLC支持ONFI2.1接口規(guī)范(Open Flash Interface),數(shù)據(jù)傳輸率最高可達(dá)200MB/S,而且可以采用閃存封裝內(nèi)部集成多片的封裝方案。

              表示,明年初這兩種閃存芯片便可正式量產(chǎn)。



            關(guān)鍵詞: 鎂光 NAND 閃存芯片 34nm

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