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            ST慶祝Nano2012框架協(xié)議正式啟動

            作者: 時間:2009-07-24 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

              意法半導(dǎo)體和法國電子信息技術(shù)實驗室CEA-LETI宣布,法國經(jīng)濟、工業(yè)和就業(yè)部長,以及國家和地區(qū)政府的代表、CEA-LETI和意法半導(dǎo)體的管理層,齊聚法國格勒諾布爾(Grenoble)市的Crolles分公司,共同慶祝研發(fā)項目正式啟動。IBM的代表也參加了啟動儀式。IBM公司是意法半導(dǎo)體和CEA-LETI的重要合作伙伴,與雙方簽署了重要的技術(shù)開發(fā)協(xié)議。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/96574.htm

              是由意法半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)的國家/私營戰(zhàn)略研發(fā)項目,聚集研究院和工業(yè)合作伙伴,得到法國國家、地區(qū)和本地政府的財政支持,旨在于創(chuàng)建世界最先進(jìn)的研發(fā)集群,開發(fā)新一代納電子級別的半導(dǎo)體技術(shù),用于制造結(jié)構(gòu)尺寸大約為幾十納米(1納米等于十億分之一米)的芯片。

              通過為歐洲企業(yè)提供從一直到的最先進(jìn)的具有競爭力的技術(shù),合作項目以及其它的世界領(lǐng)先的合作項目(如CATRENE)將對歐洲電子工業(yè)的持續(xù)增長做出重大貢獻(xiàn)。Nano2012項目始于2008年1月1日,預(yù)定到2012年12月31日告一段落,法國政府機構(gòu)為這個五年期項目提供部分資金。這個項目還有其它的參與者,包括INRIA(法國國家計算機科學(xué)與控制研究院)、CNRS(國家科研中心)、大學(xué)和多家中小企業(yè)。

              意法半導(dǎo)體和CEA-LETI有很長的研發(fā)合作歷史。1992年,雙方首次合作建立Crolles研發(fā)中心。作為領(lǐng)先的研究實驗室,CEA-LETI是學(xué)術(shù)研究與以市場為導(dǎo)向的意法半導(dǎo)體工業(yè)研發(fā)之間長期的重要交流橋梁。2007年7月,意法半導(dǎo)體加入以IBM公司在紐約East Fishkill和 Albany的兩個研發(fā)中心為核心的半導(dǎo)體合作開發(fā)聯(lián)盟,這兩個中心開發(fā)32到 的低功耗核心制程。同時IBM加盟意法半導(dǎo)體的Crolles研發(fā)中心,開發(fā)增值專用衍生技術(shù)。此外,在CMOS技術(shù)所需的材料和制程開發(fā)方面,CEA-LETI和IBM具有強大的實力和互補性的專業(yè)知識,雙方在CEA-LETI的格勒諾布爾(法國)分公司、IBM的 East Fishkill工廠(紐約)、意法半導(dǎo)體的 Crolles分公司(法國)以及Albany NanoTech研究中心(紐約)合作開發(fā) 以及22nm以下的先進(jìn)制程。

              自Nano2012項目于2008年1月啟動以來,意法半導(dǎo)體和IBM交換Crolles和East Fishkill兩地的研究人員,并在多個項目上與CEA-LETI的研究人員開展合作,包括和28 nm CMOS核心制程和無線通信用45nm RF(射頻)衍生技術(shù),和汽車電子與智能卡用65nm非易失性存儲器衍生技術(shù)。這些技術(shù)可降低現(xiàn)有通信設(shè)備、消費電子、計算機和汽車電子的功耗,延長電池使用時間,提高性能,為終端用戶提供更多功能和實用性。

              Nano2012項目的工作重點是為低功耗的專用CMOS衍生技術(shù)開發(fā)技術(shù)平臺。一個技術(shù)平臺包括把數(shù)十億支晶體管集成到一顆芯片內(nèi)所采用的制程,以及單元庫和利用這個制程高效設(shè)計尖端電路的設(shè)計方法。利用在Crolles和格勒諾布爾的世界一流的研發(fā)團隊,意法半導(dǎo)體及合作伙伴已位居這個領(lǐng)域的世界前列,Nano2012的重要目標(biāo)之一是擴大歐洲在此一領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。

              增值專用衍生技術(shù)是標(biāo)準(zhǔn)CMOS技術(shù)的重要差異化技術(shù),使位于Grenoble-Isere的研發(fā)集群在這個領(lǐng)域保持領(lǐng)先水平是Nano2012項目的另一重要目標(biāo)。

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            關(guān)鍵詞: ST CMOS 32nm 22nm Nano2012

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