大日本印刷與美國Molecular Imprints就在推進22nm級以后納米壓印技術實用化進程中建立戰(zhàn)略性合作關系達成了一致。

　　納米壓印技術與ArF液浸曝光及EUV曝光等光刻技術相比，可削減設備成本。但因其是用模板壓模后轉印電路圖形，所以量產時需要定期更換模板。因此，該公司希望成本能比模板進一步降低。

　　為了解決該課題，此次的合作中兩公司將共同開發(fā)在硅晶圓上轉印圖形用納米壓印模板復制技術。兩公司稱，將應用現有的光掩模制造技術，確立可高效復制及制造模板的技術。

　　此前，大日本印刷在納米壓印技術方面，一直致力于開發(fā)用于在底板上形成電路圖形的石英玻璃制模板。2005年，該公司出資從事納米壓印技術開發(fā)的Molecular，建立了Molecular系統用模板的開發(fā)銷售體制。并且于07年成功開發(fā)了支持18nm級半導體工藝的模板。大日本印刷將在2011年底之前確立模板復制技術。力爭2012年度之前量產采用于半導體內存等。