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            英特爾和美光明年量產(chǎn)新一代非易失性存儲(chǔ)器

            作者: 時(shí)間:2015-08-11 來(lái)源:技術(shù)在線 收藏

              科技于2015年7月28日發(fā)布了“3D XPoint技術(shù)”,稱其為“自1989年NAND閃存問(wèn)世以來(lái),內(nèi)存技術(shù)時(shí)隔25年多取得的新突破”。兩家公司還利用該技術(shù)開(kāi)發(fā)出了NAND閃存中比較普遍的容量為128GB的芯片。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/278526.htm

              設(shè)想應(yīng)用于需要快速處理大量數(shù)據(jù)的領(lǐng)域。例如采用8K超高精細(xì)影像的游戲、面部識(shí)別及語(yǔ)音識(shí)別等圖案匹配、基因分析等。

              兩家公司將于2015年底向特定客戶供應(yīng)樣品,2016年正式開(kāi)始銷售。

              訪問(wèn)時(shí)間與DRAM相當(dāng)

              簡(jiǎn)單地概括其特點(diǎn),可以說(shuō)3D XPoint是訪問(wèn)時(shí)間與DRAM相當(dāng)?shù)母呙芏却鎯?chǔ)技術(shù)。不過(guò),該技術(shù)也有局限性,包括可擦寫次數(shù)不足以取代DRAM、取代NAND閃存的成本較高等。

              等公布了以下三項(xiàng)性能:(1)訪問(wèn)時(shí)間為數(shù)十ns,只有NAND閃存的1/1000,(2)可擦寫次數(shù)為數(shù)千萬(wàn)(接近108)次,是NAND閃存的1000倍,(3)內(nèi)存單元的密度是DRAM的10倍。

              雖然訪問(wèn)時(shí)間與DRAM相當(dāng),但單元密度與NAND閃存處于同等水平。不過(guò),可擦寫次數(shù)與DRAM相比還有很大差距。雖然大幅高于NAND閃存,但用于需要擦寫1014~1015次的主還遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠。

              英特爾副總裁、非易失解決方案事業(yè)部總經(jīng)理Rob Crooke表示,“成本將介于(每GB成本在幾十~一百日元的)DRAM與(每GB成本為幾日元的)NAND之間”。不過(guò)從目前來(lái)看,其價(jià)格可能接近DRAM。因?yàn)?a class="contentlabel" href="http://www.biyoush.com/news/listbylabel/label/美光">美光首席執(zhí)行官M(fèi)ark Durcan說(shuō),“NAND閃存的成本非常低,新技術(shù)不會(huì)對(duì)其構(gòu)成威脅”。

              結(jié)構(gòu)與相變專利相似

              英特爾等對(duì)3D XPoint做了如下介紹:(1)是基于2層以上交叉點(diǎn)結(jié)構(gòu)的電阻變化型非易失性存儲(chǔ)器,(2)材料以化合物為基礎(chǔ),(3)名為“選擇器(Selector)”的取代晶體管的開(kāi)關(guān)技術(shù)是一大關(guān)鍵,(4)兩家公司都從10多年以前就開(kāi)始研究,從2012年開(kāi)始合作開(kāi)發(fā)(圖1(a))。

              

             

              圖1:可能采用相變存儲(chǔ)器技術(shù)

              3D XPoint的結(jié)構(gòu)(a)和于2015年3月公布的基于交叉點(diǎn)結(jié)構(gòu)的相變存儲(chǔ)器專利(US20150074326)中的元件結(jié)構(gòu)(b)。除有無(wú)中間電極等之外,結(jié)構(gòu)基本一致。(圖:(a)由英特爾提供,(b)中的紅字和紅框是本站記者添加的) (點(diǎn)擊放大)

              但是,英特爾和美光并未公布具體采用了哪種非易失性存儲(chǔ)器技術(shù)。NAND閃存以外的非易失性存儲(chǔ)器都屬于電阻變化型。因此,各新聞媒體有著各種不同的揣測(cè)。

              目前,日經(jīng)技術(shù)在線預(yù)測(cè)最有可能的是相變存儲(chǔ)器(PCM或PCRAM)。PCM的原理是,材料受熱量影響在非晶態(tài)和晶體態(tài)之間切換,電阻值會(huì)隨之發(fā)生變化。這也是英特爾和美光都擁有悠久開(kāi)發(fā)歷史的技術(shù)。

              尤其是美光于2015年3月公開(kāi)的PCM專利,其結(jié)構(gòu)與3D XPoint相似(圖1(b))。這項(xiàng)專利中的選擇器采用的技術(shù)是,利用與相變存儲(chǔ)器材料基本相同的材料實(shí)現(xiàn)了電流開(kāi)關(guān)功能。

              PCM在訪問(wèn)時(shí)間、可擦寫次數(shù)及單元密度等性能方面也與3D XPoint基本一致(表1)。部分媒體認(rèn)為,雖然ReRAM被看好,但ReRAM的瓶頸在于可擦寫次數(shù)較少。還有媒體推測(cè)3D XPoint與名為CeRAM*的PCM技術(shù)接近。但是,CeRAM還處于開(kāi)發(fā)初期,并且使用不能稱作化合物的氧化鎳(NiO)。

              

             

              表1:3D Xpoint與新一代非易失性存儲(chǔ)器技術(shù)群進(jìn)行比較

              * CeRAM:correlated electron RAM。將氧化鎳(NiO)作為相變材料的非易失性存儲(chǔ)技術(shù)。利用“量子相變”性質(zhì),即材料的能帶結(jié)構(gòu)在金屬與半導(dǎo)體之間切換的性質(zhì)。思美公司(Symetrix)是目前該技術(shù)的主要開(kāi)發(fā)者。

              而由PCM發(fā)展而來(lái)、提高了數(shù)據(jù)讀取時(shí)的吞吐量等的TRAM*也有2MB的試制品,3D XPoint也有可能采用這項(xiàng)技術(shù)。 (記者:野澤 哲生)

              * TRAM:topological switching RAM。日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所和日本超低電壓元器件技術(shù)研究聯(lián)盟(LEAP)開(kāi)發(fā)的非易失性存儲(chǔ)器技術(shù)。通過(guò)優(yōu)化PCM的晶體結(jié)構(gòu)、縮短相變時(shí)的原子移動(dòng)距離等,將數(shù)據(jù)讀取寫入時(shí)的吞吐量提高到了PCM的3倍

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