248nm準(zhǔn)分子激光器技術(shù)由于輸出波長短、能量高、具有窄的脈寬和很高的峰值功率，在工業(yè)、國防等方面，尤其是高功率激光系統(tǒng)包括248nm光刻技術(shù)、激光醫(yī)療、激光精細(xì)加工中具有極廣的應(yīng)用前景，也是ICF領(lǐng)域一個重要的技術(shù)選項。248nm薄膜元件是準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)中重要的薄膜元器件，其光學(xué)損耗和抗激光損傷性能對激光系統(tǒng)的效率起著重大或決定性的作用。

　　中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所研究了LaF3、MgF2、Al2O3和SiO2薄膜的低吸收、低損耗蒸發(fā)沉積工藝，在此基礎(chǔ)上設(shè)計并制備了兩種248nm增透膜，增透膜的剩余反射率均小于0.1%。“天光”準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)將該所制備的增透膜元件與國際最重要，也代表最高國際水平的德國研制元件進(jìn)行了損傷閾值對比測試，測試波長248nm，脈寬24ns。結(jié)果顯示，對比德國5.5J/cm2的損傷閾值，該所制備的LaF3/MgF2增透膜平均在7.5J/cm2，最高達(dá)到11J/cm2;Al2O3/SiO2制備的增透膜的損傷閾值平均在6J/cm2。證明上海光機(jī)所研制的248nm增透膜損傷閾值結(jié)果達(dá)到國際領(lǐng)先水平。

　　圖1. 兩種材料組合制備的248nm增透膜的光譜曲線

　　圖2. 248nm增透膜的損傷閾值對比測試結(jié)果