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      Synopsys Galaxy設計平臺支撐了90%的FinFET設計量產(chǎn)

      作者: 時間:2015-03-26 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

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      本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/271666.htm

         Galaxy Design Platform設計平臺被用于90%的設計量產(chǎn)

         強勁的平臺采用率彰顯了Synopsys在數(shù)字和定制設計實現(xiàn)工具領域內(nèi)的領先性

         所有的晶圓代工廠都已經(jīng)使用并認證了Galaxy Design Platform

        新思科技公司(Synopsys, Inc.,納斯達克股票市場代碼:SNPS)日前宣布:其 Galaxy™ Design Platform 設計平臺支撐了90%基于FinFET設計的量產(chǎn)流片。全球超過20家行業(yè)領導性企業(yè)已經(jīng)使用該平臺成功地完成了超過100次FinFET流片。包括三星電子(Samsung)、英特爾代工部門(Intel Custom Foundry)、Global Foundries以及其它晶圓代工廠通過使用Galaxy Design Platform為共同的客戶成功實現(xiàn)測試芯片和FinFET量產(chǎn)流片,包括Achronix、創(chuàng)意電子(GUC)、海思半導體(HiSilicon Technologies)、美滿電子科技(Marvell)、Netronome、英偉達(NVIDIA)、三星等,他們代表了多樣化的應用市場,包括消費電子、無線通信、圖形處理、微處理器和網(wǎng)絡設備等領域。

        基于FinFET的工藝節(jié)點提供了多項優(yōu)勢,包括更大的密度、更低的功耗以及更高的性能。為了實現(xiàn)這些優(yōu)勢,Galaxy Design Platform實現(xiàn)工具中的全新創(chuàng)新性技術無縫地處理了與從平面移轉(zhuǎn)到3D晶體管相關的大量全新設計規(guī)則。Synopsys積極地與晶圓代工伙伴進行全面的合作,以確保Galaxy Design Platform中的所有工具都已經(jīng)得到更新,以支持由FinFET器件所帶來的各種工藝改變,包括多重曝光和局部互聯(lián)結構。所更新的工具包括Design Compiler®邏輯綜合解決方案、TetraMAX® ATPG、IC Compiler與IC Compiler II布局布線解決方案、PrimeTime®核簽解決方案、StarRC™寄生參數(shù)提取、HSPICE®、CustomSim™與FineSim®仿真產(chǎn)品、Galaxy Custom Designer®電路圖和Laker®布局工具以及IC Validator物理驗證等。

        “我們與采用FinFET技術的晶圓代工廠及終端客戶保持了長期而緊密的合作關系,這使Synopsys能夠達到這個重要的里程碑,”Synopsys執(zhí)行副總裁兼設計事業(yè)部總經(jīng)理Antun Domic表示。“在過去的幾年里,許多公司已經(jīng)部署了Galaxy Design Platform用于批量生產(chǎn)采用FinFET器件的半導體產(chǎn)品。我們的客戶要求其設計具有最高的性能和最低的功耗,從而推動他們轉(zhuǎn)向FinFET。設計人員可以確信地為其FinFET設計使用Galaxy工具,并得到質(zhì)量優(yōu)異的結果。”



      關鍵詞: Synopsys Galaxy FinFET

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