Entegris, Inc.，一家為先進制造環(huán)境提供良率提升材料和相關(guān)解決方案的領(lǐng)先企業(yè)，日前發(fā)布了 VaporSorb™ 系列氣體分子污染 (AMC) 過濾器的新產(chǎn)品。此款新型的“多合一”單過濾器可在半導體制造的化學機械研磨 (CMP) 工藝中去除關(guān)鍵 AMC。領(lǐng)先的過濾器品牌 VaporSorb 在半導體制造的關(guān)鍵步驟中主要用于潔凈室環(huán)境和生產(chǎn)機臺，是面向 CMP 生產(chǎn)機臺的首款過濾器，可抵御弱酸以及其他污染物。

　　此款新型過濾器專為 CMP 機臺設(shè)計，可為單過濾器中所有關(guān)鍵 AMC 提供均衡壽命，從而避免多片過濾器處理的復雜性。此外，此款過濾器保留了 VaporSorb 品牌業(yè)界領(lǐng)先的使用壽命優(yōu)勢，從而能夠降低機臺宕機時間和使用成本。

　　Entegris AMC 過濾解決方案產(chǎn)品營銷經(jīng)理 Marc Venet 表示，“正如在光刻工藝中那樣，CMP 工藝中的良率問題可通過提供全面的 AMC 保護得以解決。這意味著能夠抵御弱酸，以及強酸和其他污染物。借助 VaporSorb CMP 產(chǎn)品，我們可以提供一體化解決方案徹底解決 CMP 工藝中 AMC 引發(fā)的腐蝕缺陷。”

　　弱酸包括乙酸和甲酸(醋酸鹽;CH3COO- 和甲酸鹽;HCOO-)以及亞硝酸(亞硝酸鹽;NO2-)等。強酸包括 HNO3、SO2、H2SO4 以及 HCl 等。這些污染物會導致 CMP 工藝缺陷和良率問題。

　　7 月，公司發(fā)布了業(yè)界首款“四合一”過濾器，即面向光刻機臺的 VaporSorb TRK，用于捕獲氣體有機物、堿基類、強酸和弱酸。VaporSorb 過濾器采用 Entegris特有的混合材料，可捕獲氣體分子污染物，專為提供特定于應用和工廠的過濾器解決方案而量身定制。

　　欲了解有關(guān) VaporSorb CMP 過濾器的詳細信息，請訪問 www.entegris.com。