TDK的DNA是“磁性”

　　記者：請您簡要介紹一下TDK公司?

　　松岡薰：TDK始于鐵氧體技術。1930年，由東京工業(yè)大學的加藤與五郎博士和武井武博士研發(fā)成功鐵氧體，1935年齋藤憲三先生創(chuàng)建了TDK公司，致力于把鐵氧體技術產業(yè)化。TDK的名字由來，是由東京工業(yè)大學電化學系(Tokyo(東京) Denki(電氣) Kagaku(化學))的首字母組成的，即兩位博士當年授課的單位。

　　回顧TDK的技術方針，是以更高一籌的意志與覺悟，樹立新的技術典范為宗旨，勇于挑戰(zhàn)與革命。TDK有值得驕傲的四大發(fā)明：第一是TDK創(chuàng)業(yè)時的鐵氧體，第二是磁帶技術，第三是推動電子設備小型化的精密層疊技術，第四是應用在電腦硬盤驅動器里的薄膜磁頭&超尖端技術。

　　TDK獲得過一些重要獎項，例如2009年東工大和TDK共同榮膺IEEE里程碑獎，獎勵“鐵氧體的發(fā)明與工業(yè)化生產”，可見TDK鐵氧體對世界的貢獻。2012和2013年，TDK連續(xù)兩年入選Thomson Reuters(湯森路透)評出的全球百強創(chuàng)新企業(yè)。

　　記者：TDK非常重視創(chuàng)新，核心技術是什么?

　　松岡薰：TDK的DNA是磁性。微細加工、粉體與薄膜生成、燒結、涂布等進步形成了核心技術。目前TDK正以材料技術為核心，目前看好三大類技術和產品：薄膜磁頭與超尖端技術;基板內置用薄膜電容器(TFCP);未來的非接觸供電技術。

薄膜磁頭&超尖端技術

　　記者：TDK的薄膜磁頭&超尖端技術的特點是什么?

　　松岡薰：電腦中的硬盤驅動器，很多采用了TDK的技術。TDK磁頭的精度達到將1.2×0.8×0.3mm的磁頭滑塊在磁盤上面，是以10nm的高度飛起來的水平，其速度和高度的難度相當于波音747飛機以0.56mm的高度貼著地面飛行。

　　TDK的隧道磁電阻磁頭達到了原子層控制。另外，熱輔助磁記錄可實現(xiàn)超1Tb/in2的記錄密度，關鍵技術包括能夠實現(xiàn)加熱的“近場光”向數(shù)十納米的區(qū)域聚焦，TDK還在世界上率先開發(fā)出搭載激光光源的記錄磁頭。

　　為此，TDK采用12μm的半導體加工技術，可見磁頭模塊比半導體芯片加工更加先進。