“主流GaN”的發(fā)展和未來
業(yè)界認為,GaN(氮化鎵)技術最有可能替代硅成為諸多射頻應用的新寵。雖然得益于其性能優(yōu)勢產生了巨大的行業(yè)利益,但該項技術至今仍在成本方面面臨重大挑戰(zhàn)。本周在蒙特利爾召開的IEEE MTT-S國際微波研討會上,恩智浦半導體(納斯達克:NXPI)將展示其第一代GaN產品的全部產品組合(展臺607),并探討有關GaN的愿景和發(fā)展規(guī)劃。該愿景的核心是“主流GaN”理念,即利用恩智浦在射頻功率晶體管領域30多年的經驗引導創(chuàng)新,促進形成安全、可靠的射頻GaN產品供應鏈,進而帶動業(yè)界形成規(guī)模經濟效應。
本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/260082.htm恩智浦半導體射頻功率產品線市場總監(jiān)Mark Murphy表示:“自從我們去年發(fā)表‘主流GaN’的承諾,我們已收到對我們GaN產品的極大興趣,并與一些關鍵客戶緊密合作,改進我們的第一代GaN產品與此同時,通過為我們的客戶提供高性能GaN和LDMOS之間的選擇——有時結合這兩種——我們已處于非常獨特的地位,可根據(jù)每個應用的特殊需求,為完全優(yōu)化的設計提供準確的選擇。”
今日的主流GaN:樣品、應用實例和可靠的供應鏈
恩智浦目前提供其第一代GaN產品的工程樣品,包括CLF1G0035-50和CLF1G0035-100放大器,可用于50W和100W寬帶應用。恩智浦將在IMS2012上現(xiàn)場展示應用實例,包括涵蓋200 - 2700 MHz頻帶的多級GaN陣容。GaN陣容使用恩智浦全新的CLF1G0060-10驅動器以及CLF1G0035-50放大器作為輸出級,支持50V GaN技術,擁有一流的線性性能。由于50V GaN工藝的阻抗水平更高,寬帶放大器就可設計在單晶體管內。
基于我們在弗萊堡與弗勞恩霍夫IAF研究所、以及在德國烏爾姆與聯(lián)合單片半導體(UMS)共同開發(fā)的0.5 µm柵極長度技術,恩智浦的第一代GaN放大器具有出色的線性性能且不會犧牲功率、穩(wěn)固度和效率,極大地減少器件數(shù)量和放大器尺寸。恩智浦與聯(lián)合單片半導體(UMS)和弗勞恩霍夫IAF研究所的合作同時也建立了GaN技術在歐洲的供應鏈。
恩智浦將于Q3和Q4大批量生產并提供額外的GaN放大器工程樣品。欲了解更多信息,請訪問恩智浦射頻手冊(第16版)以及http://www.nxp.com/techzones/hprf-techzone/technologies/gan.html
明日的主流GaN
恩智浦還將于IMS2012上展示使用GaN的高級應用,包括現(xiàn)場演示調諧為2.45 GHz的E類放大器,表明GaN帶來的突破性效率。該放大器的晶體管采用內部E類諧波匹配,具有一流的效率——24W、2.45 GHz時為75.2%。恩智浦的高效率E類窄帶GaN解決方案基于正在開發(fā)中的0.25 μm柵極長度技術,計劃2013年面市。
同時,恩智浦還在開發(fā)使用GaN開關晶體管的數(shù)字功率放大器,可提供比線性放大器更高的效率。這些開關模式功率放大器(SMPA)可用于多頻帶而無需更改任何硬件,并且將成為推動未來“終極”基站發(fā)展的關鍵因素。正如恩智浦其他的GaN工藝,0.25 μm GHSM工藝采用SiC襯底,具有更佳的可靠度、卓越的射頻性能和增強的熱管理,進一步突出了堅定地選擇GaN的優(yōu)勢。
不僅射頻GaN已在航空航天和國防市場取得了巨大的關注,恩智浦還關注未來的增長領域,包括無線基礎設施和基站、能源轉換、傳感和圖像市場。
關于恩智浦半導體
恩智浦半導體NXP Semiconductors N.V. (Nasdaq: NXPI)以其領先的射頻、模擬、電源管理、接口、安全和數(shù)字處理方面的專長,提供高性能混合信號(High Performance Mixed Signal)和標準產品解決方案。這些創(chuàng)新的產品和解決方案可廣泛應用于汽車、智能識別、無線基礎設施、照明、工業(yè)、移動、消費和計算等領域。公司總部位于歐洲,在全球超過25個國家擁有大約28,000名員工,2009年公司營業(yè)額達到38億美元。
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