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            EEPW首頁(yè) > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > 新SIW方形腔體雙膜濾波器的設(shè)計(jì)

            新SIW方形腔體雙膜濾波器的設(shè)計(jì)

            作者: 時(shí)間:2014-02-10 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/259578.htm

            根據(jù)多模激勵(lì)的單腔體諧振器原理以及基片集成波導(dǎo)()高Q值、低損耗、大功率容量的特點(diǎn),提出了一種新的的設(shè)計(jì)方法。該方 法 通過(guò)在腔體兩個(gè)對(duì)稱(chēng)角上切角作為微擾來(lái)使簡(jiǎn)并模式分離并產(chǎn)生耦合,從而形成了中心頻率在 4.95GHz的窄帶帶通濾波器,并最終采用直接過(guò)渡方式實(shí)現(xiàn)了SIW到微帶的轉(zhuǎn)換。


            SIW的雙膜諧振器具有一對(duì)簡(jiǎn)并模式,可以通過(guò)對(duì)諧振器加入微擾單元來(lái)使這兩個(gè)簡(jiǎn)并模式分離,因此,經(jīng)過(guò)擾動(dòng)后的諧振器可以看作一個(gè)雙調(diào)諧電路。分離的 簡(jiǎn)并模式產(chǎn)生耦合后,會(huì)產(chǎn)生兩個(gè)極點(diǎn)和一個(gè)零點(diǎn)。所以,在減小尺寸的同時(shí),也增加了阻帶衰減。而且還可以實(shí)現(xiàn)較窄的百分比帶寬??墒?,雙膜濾波 器又有功率損耗高、插入損耗大的缺點(diǎn)。為此,本文提出了一種新型SIW腔體的設(shè)計(jì)方法。


            該SIW的大功率容量、低插入損耗特性正好可以對(duì)雙膜濾波器的固有缺點(diǎn)起到補(bǔ)償作用。而且輸入/輸出采用直接過(guò)渡的轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu),也減少了耦合縫隙的損耗。l 雙膜諧振原理及頻率調(diào)節(jié)


            SIW是一類(lèi)新型的人工集成波導(dǎo),它是通過(guò)在平面電路的介質(zhì)層中嵌入兩排金屬化孔構(gòu)成的,這兩排金屬化孔構(gòu)成了波導(dǎo)的窄壁,圖1所示是基片集成波導(dǎo)的結(jié)構(gòu)示意圖。這類(lèi)平面波導(dǎo)不僅容易與微波集成電路(MIC)以及單片微波集成電路(MMIC)集成,而且,SIW還繼承了傳統(tǒng)矩形波導(dǎo)的品質(zhì)因數(shù)高、輻射損 耗小、便于設(shè)計(jì)等優(yōu)點(diǎn)。

            圖1 基片集成波導(dǎo)的結(jié)構(gòu)

            1.基片集成波導(dǎo)諧振腔

            1.一般情況下,兩個(gè)電路的振蕩頻率越接近,這兩個(gè)電路之間的能量轉(zhuǎn)換需要的耦合就越小。由于諧振腔中的無(wú)數(shù)多個(gè)模式中存在著正交關(guān)系,故要讓這些模式耦 合 發(fā)生能量交換,必須對(duì)理想的結(jié)構(gòu)加擾動(dòng)。但是,為了保持場(chǎng)結(jié)構(gòu)的原有形式,這個(gè)擾動(dòng)要很小。所以,本文選擇了SIW的簡(jiǎn)并主模TE102和 TE201,它們的電場(chǎng)分布圖如圖2所示。因?yàn)門(mén)M和TEmn(n10)不能夠在SIW中傳輸。因此,一方面可以保證在小擾動(dòng)時(shí)就可以實(shí)現(xiàn)耦合,同時(shí)也可 以保證場(chǎng)的原有結(jié)構(gòu)。

            圖2 電場(chǎng)分布圖

            圖3 SIW腔體


            假設(shè)圖3所示的矩形腔體的長(zhǎng)、寬、高分別為a、b、d。因?yàn)門(mén)Emn(n10)不能在SIW中傳輸,所以對(duì)于SIW諧振腔來(lái)說(shuō),其諧振頻率的計(jì)算公式如下:


            對(duì)于具有相同諧振頻率的兩個(gè)模式來(lái)說(shuō),則有如下關(guān)系:


            根據(jù)選定的工作簡(jiǎn)并模式,利用公式(1)、(2)、 (3)來(lái)確定矩形波導(dǎo)諧振腔的初始尺寸,然后再結(jié)合有關(guān)文獻(xiàn),就可以確定SIW腔體的尺寸。圖3所示是其金屬矩形諧振腔的基本結(jié)構(gòu)。


            雙膜SIW諧振腔及其頻率調(diào)節(jié)

            圓柱形波導(dǎo)、矩形波導(dǎo)和微帶線(xiàn)都可以用來(lái)做雙膜濾波器。然而,一些典型的雙膜設(shè)計(jì)方法(如加調(diào)節(jié)螺釘、內(nèi)角加工、在微帶貼片上加入十字槽等)并不適用于 SIW腔體。有文獻(xiàn)提到采用切角、打孔、饋電擾動(dòng)等擾動(dòng)方式來(lái)應(yīng)用于SIW腔體。故此,本文選取了在SIW腔體對(duì)稱(chēng)的角上切兩個(gè)相同的方形切角作為微擾方式。


            擾動(dòng)腔體的諧振頻率被分成f1和f2兩個(gè)高低不同的頻率,這兩個(gè)頻率的平均值(f1+f2)/2和原有腔體的諧振頻率f0往往不相等。類(lèi)似地,輸入/ 輸出部分的耦合也會(huì)造成諧振頻率的平移。這樣就會(huì)造成兩種情況:一是(f1+f2)/2>f0;二是(f1+f2)/2 P>


            是大于還是小于取決于耦合結(jié)構(gòu)。對(duì)于第一種情況,可以通過(guò)加大諧振腔尺寸來(lái)調(diào)節(jié)頻率移動(dòng);而對(duì)于第二種情況,則可以通過(guò)減小諧振器尺寸或者在諧振腔上開(kāi) 個(gè)縫來(lái)減少諧振腔等效尺寸等方法來(lái)調(diào)節(jié)。當(dāng)然也可以不調(diào)節(jié),分別針對(duì)這兩種情況加以利用。


            在實(shí)際的工程應(yīng)用中。要求 sλ/20,當(dāng)SIW工作在高頻段時(shí),為了滿(mǎn)足上述條件,往往要求金屬柱半徑以及它們之間的間距很小,以至于加工非常困難。而此時(shí)就可以利用第一 種情況,以較大的尺寸在較高頻率處實(shí)現(xiàn)良好的濾波性能,降低加工難度;而對(duì)于第二種情況,可以以更小的尺寸在較低的諧振頻率處實(shí)現(xiàn)良好的濾波性能,從而實(shí) 現(xiàn)濾波器的小型化。本文就是有效地利用了第二種情況,從而設(shè)計(jì)出性能好、尺寸小的濾波器。


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