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      TFT-LCD光阻回收再利用技術

      作者: 時間:2012-10-18 來源:網絡 收藏

      一、 產業(yè)簡介

      彩色薄膜液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display; ) 為光電產品中平面顯示器的一種,由于其體積小、質量輕、厚度薄、耗電低、不閃爍、沒輻射等許多優(yōu)點,目前已成為顯示器領域中之主要商品。液晶顯示器(liquid crystal display, LCD) 自1973 年日本Sharp 公司應用于電子計算器以來,產品發(fā)展一日千里,綜觀其發(fā)展歷程, 除了在產品應用上越來越多樣化外, 也漸漸由1990 年初的消費性電子產品轉為信息產品,而且有越來越大型化的趨勢。其中TFT -LCD 因具有較快的反應速度、較大的對比率及較寬的視角等優(yōu)點,遂成為LCD 產業(yè)中的主流。

      依據2002 年富士總合研究所推估,2002 年全球LCD 用上游材料市場規(guī)模高于6,669 億日圓, 較2001 年成長達26.7%。預估2007 年全球LCD 用上游材料市場規(guī)模將成長至1 兆3,907 億日圓,平均年成長率約為21.7%。我國2002 年 主要上游原材料市場規(guī)模 (僅以彩色濾光片、背光模塊、偏光板用主要原料推估) 估計在新臺幣600 億元以上,預估未來在臺灣TFT-LCD 產量持續(xù)成長的帶動下,臺灣LCD 顯示器上游原材料市場規(guī)模仍將穩(wěn)定維持2 位數的成長, 市場規(guī)模龐大,為一極具商機之潛在市場。

      目前TFT-LCD 制程中光阻以旋轉涂布 (spin coating) 的方式涂布于玻璃基板上, 此種涂布方式光阻劑的利用率約為10 %,其余90 %以廢棄物處理之。估計臺灣光電產業(yè)每年損失之光阻劑高達50 億元以上 (以每年廢光阻約5,000 公噸,光阻劑售價約1,000-2,500 元/公升,光阻劑密度為0.8-0.9 g/cc 估計)。此外,根據竹科IC 產業(yè)事業(yè)廢棄物申報數據顯示,2003年度新竹科學園區(qū)正負廢光阻推估量達5,000 公秉。光電半導體業(yè)因光阻利用率低,每年損失之光阻價值估計超過100 億臺幣。

      二、

      針對光阻涂布制程中光阻利用率低造成原料浪費及使用大量溶劑清洗所造成的環(huán)境問題及成本浪費,可以利用達到原料及溶劑回收再利用之目的并可減少制程中污染物的生成量。

      將廢光阻與稀釋劑調整濃度后再經過濾、消泡等處理后,以UV監(jiān)控其吸光度,令其狀態(tài)與原生光阻一致,送回涂布機臺再利用。這種設計方式優(yōu)點為不改變光阻涂布機臺之操作條件,制程風險較低。回收再利用若光阻利用率提高至50%,則可節(jié)省光阻液150 公噸/年,若光阻液市價為3,000 元臺幣/公斤,則可節(jié)省4.5 億元臺幣/年,回收再利用效益非??捎^。此外,由于廢光阻液的產量亦可減少150 公噸/年,若委外處理費用為7,000元臺幣/公噸,廢光阻液委外處理費用可減少約100 萬元臺幣/年。

      針對電子所提供AZ650 之原生光阻及廢光阻進行回收實驗。首先進行原生光阻與廢光阻之性質分析,其黏度及固含量測定結果如表一。因涂布制程的差異,所產生之廢光阻可能有兩種狀況:廢光阻No.1 因制程中抽排氣使溶劑揮發(fā),造成濃縮之效果。而廢光阻No.2 則是在上光阻前會先噴灑溶劑于玻璃基板上,使所收集之廢光阻發(fā)生稀釋的情形。


      針對不同特性之廢光阻,設計出其適合之調配方式其實驗流程如圖一。廢光阻No.1 因制程方式而產生濃縮效應。本實驗利用丙二甲醇甲醚、丙二甲醇甲醚丙酯混合溶劑為稀釋劑,調整光阻黏度及固含量。廢光阻No.2 則因已被清洗溶劑所稀釋, 在此為避免高溫對光阻性質有所影響, 故以減壓濃縮方式在低溫(30 ℃)下將多余溶劑除去。

      經調整后之廢光阻No.1、No.2 以分光光度計及黏度計偵測之,當光阻黏度與固含量調整至適當條件后再以一由1.0、0.2 及0.1μm 過濾器所串聯組成之過濾系統(tǒng)過濾之降低其中之粒子數。再測定其黏度與固含量則可得再生光阻No.1、No.2。再生光阻再經由電子所進行涂布、曝光、顯影及蝕刻等驗證實驗,測試再生光阻是否具有光活性。表二為過濾后之再生光阻及原生光阻經涂布制程后之粒子數,由表中結果得知經過濾后之再生光阻其粒子數與原生光阻大致相符,且符合現有制程要求。

      1μm

      3μm

      5μm

      10μm

      50μm

      原生光阻

      178

      136

      88

      46

      17

      再生光阻No.1

      264

      229

      158

      90

      21

      再生光阻No.2

      158

      144

      101

      52

      5



      再生光阻之特性及其經涂布后所得之膜厚結果如表三。由表中可知兩種再生光阻的黏度與密度與原生光阻相近,而固含量則略高于原生光阻。光阻涂布后其膜厚與黏度及固含量有關,當黏度或固含量較高時其膜厚將偏厚,反之則偏薄。由于兩種再生光阻黏度及固含量皆略高于原生光阻,故其膜厚亦較厚于原生光阻之膜厚。

      膜厚(?)

      黏度(cps)

      密度(g/mL)

      固含量(g/mL)

      原生光阻

      11004

      15.28

      0.99

      0.31

      再生光阻No.1

      12265

      15.56

      1.01

      0.37

      再生光阻No.2

      11301

      15.12

      1.01

      0.33



      再生光阻之曝光、顯影及蝕刻結果如圖二,顯影圖形在線寬及均勻度上均符合規(guī)格, 而再生光阻亦具抗蝕刻之效果,由圖形中可看出蝕刻后圖形完整且符合制程規(guī)格。


      三、結語

      廢光阻經本中心回收再生后由電子所驗證結果證明再生光阻具有與原生光阻相近之特性,其涂布膜厚、曝光顯影及蝕刻之驗證測試結果皆與制程規(guī)格相符。本中心將持續(xù)進行再生光阻最適化研究, 并研擬設計一套光阻劑在線自動回收系統(tǒng),除了可提高光阻劑的有效使用率, 降低制作成本外, 亦可減少廢液生成, 為一兼顧產業(yè)經濟與環(huán)境保護之清潔生產技術。

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